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1.
为了提高数字全息成像系统的成像分辨力,对以球面波作为参考光波的预放大数字全息成像系统的记录和再现过程进行了理论推导,得出了该系统的脉冲响应表达式,并由此分析了决定该系统成像分辨力的因素。在CCD成像分辨力高于显微物镜分辨力的情况下,通过对分辨力测试板进行实验,讨论了系统分辨力与记录距离的关系。结果表明:再现像的分辨力对记录距离不敏感;但在记录距离为零,即像面数字全息系统下,再现像具有更高的分辨力。实验结果与理论分析一致。  相似文献   
2.
A practical interference lithography scheme based on surface plasmon polaritions (SPPs) is suggested. In this scheme, a micro-cylinder-lens array is employed to generate the evanescent wave (EW) carrying much energy. When the top of the cylinder lenses are in close contact with a metal film coated on a resist, the energy of EW will launch strong SPPs and form enhanced interference nanopatterns in the resist. The simulation results confirm that a high quality nanopattern with a critical dimension of λ/7 can be achieved in the resistance. The anaJysis results indicate that the height of the cylinder lenses can provide a large tolerance to decrease the fabrication difficulty of this element.  相似文献   
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