氮分压对氮化锆薄膜颜色的影响规律研究

CIElab颜色空间坐标是氮化锆薄膜非常关键的技术指标,而氮分压对氮化锆薄膜颜色坐标有较大的影响。应用中频反应磁控溅射技术沉积氮化锆薄膜,通过对炉内分压强和氮化锆薄膜颜色的测量,绘制了氮分压对CIE颜色坐标L*,a*,b*值的影响曲线。发现随炉内氮分压的增大,薄膜颜色坐标a*,b*值呈环形曲线、L*值呈单调下降的变化趋势。并使用金属自由电子气模型对颜色变化趋势进行了理论分析。发现颜色坐标的变化是由于随氮分压增加,自由电子浓度降低引起等离子体频率降低造成的。对薄膜的X射线衍射谱(XRD)以及电阻率测量结果的分析表明,在氮分压较大时,颜色坐标L*的明显下降变化是由于Zr3N4等的禁带宽度小于可见光谱的极限造成的。     

65Mn钢渗硼层的磨料磨损特性

本文对渗硼加等温淬火和等温淬火的65Mn钢的磨料磨损特性、渗硼层和基体的配合、渗硼层深度对耐磨性的影响进行了研究。同时应用金相显微镜和扫描电镜对试样的磨损表面进行了观察,探讨了渗硼层的磨料磨损机理。 室内模似试验表明,65Mn钢渗硼加等温淬火工艺使其抗磨料磨损性能大幅度提高,渗硼犁铧的耐磨寿命较等温淬火犁铎提高50％以上。     

立方型Ti-B-N的光学性质的计算

立方型TiBN材料的光学性质对于深刻理解TiBN薄膜材料的光学性质,以及监测和控制TiBN薄膜材料的生长过程起着重要作用。使用基于密度泛函理论的平面波超软赝势方法计算了立方型TiBN的电子结构和光学性质,给出了电子态密度、介电常数、吸收系数、反射力、折射系数、消光系数等计算结果,并对计算结果作了分析。态密度图显示,存在源于B的2p态的态密度峰,分析认为这对立方型TiBN的光学吸收造成了明显影响。同时还计算了立方型TiBN的色度坐标,并根据计算结果对工艺参量与TiBN薄膜材料色度坐标之间的联系作出了分析。