在CWCO_2激光作用下SiH_4的分解

研究了低浓度SiH_4在CW CO_2激光作用下的分解,对分解机理进行了分析.理论结果与实验较好地符合.     

再议2011年山东高考理综卷第22题的定量解答

对“2011年高考山东卷第22题的定量求解”提出了质疑并另作解答。     

利用激光分解硅烷获得硅薄膜

半导体硅薄膜在电子工业、太阳能的利用等方面都有重要应用．通常这种薄膜多是用化学汽相沉积（ＣＶＤ）的方法制备的．由于ＣＶＤ技术要对基底进行长时间的高温加热,这就不可避免地要出现杂质迁移和来自基片的自掺杂等缺点,在器件应用中难以获得理想的杂质分布．随着激光技术的广泛应用,近两年来已有人开始探讨用激光制取硅薄膜的可能性［１］．与此同时我们也进行了初步探讨．我们的实验装置如图１所示,采用连续波ＣＯ２?...