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本文研究了各种浓度的Br2:CH3OH和Br2:HBr:H2O两种腐蚀系统分别对用负性KPP和正性AZ1350J光致光刻胶直接掩蔽[001]InP的腐蚀特性。分别给出了腐蚀速率与溴浓度,腐蚀深度与时间的关系曲线。同时从结晶学角度定性解释了腐蚀速率与溴浓度,腐蚀方向与腐蚀图形的依赖关系。  相似文献   
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