仲态电子偶素湮没辐射能量的改进测量

用充氧气的气凝硅胶作仲态电子偶素源,用¹⁹²Ir精密γ能量作标准,以时间选择能谱仪和滑动比较法改进测量仲态电子偶素2γ湮没能量,得到hv=510995.34±0.69eV.经电子偶素结合能修正,得正、负电子对静止质量,与电子质量比较,表明正、负电子质量在1.4ppm内一致.     

Si（Li）谱仪测定X射线荧光谱中CrKβ谱线化学位移的探索

采用放射源＾２４１Ａｍ５９．６ｋｅＶγ射线分别激发金属Ｃｒ、Ｃｒ２Ｏ３和Ｋ２ＣｒＯ４，用Ｓｉ（Ｌｉ）谱仪比较测量其Ｋｘ射线的能量。实验表明Ｋ２ＣｒＯ４和ＣｒＫβ能峰相对于金属Ｃｒ有２．１２±０．２７ｅＶ的位移。     

3W1永磁多极Wiggler的辐射特性

给出了北京正负电子对撞机(BEPC)同步辐射新组装的3W1 Wiggler束斑强度分布及光子束流的测量结果,并与理论计算作了比较,两者得出了一致的结果.     

北京同步辐射装置(BSRF)3B1束线精细调试

本文给出了北京同步辐射装置(BSRF)3B1束线在BEPC专用模式(储存环电子能量E_e=2GeV)不同闭轨情况下的最佳光强输出及最佳工作条件选择,并给出不同状态下的能谱测试及分析结果.     

封面说明

中国科学院高能物理研究所以北京正负电子对撞机上的同步辐射装置为依托 ,从 2 0世纪 90年代初开始微细加工技术研究 ,主要以ＬＩＧＡ、准ＬＩＧＡ技术为主 .目前实验室具有开展微细加工所必需的洁净环境以及各种加工、检测设备 ,可以开展多种镀膜、多种光刻、干 湿法腐蚀、电铸、模压塑铸等多种技术的复合加工 .目前加工出的微结构最小线宽达 5 0ｎｍ ,最大深度达 2ｍｍ ,微结构的深度 宽度之比最高达 10 0 .图为深度光刻获得的高深宽比微结构的扫描电镜照片封面说明$中国科学院高能物理研究所@彭良强…     

抛物面型X射线组合折射透镜聚焦性能的理论与实验研究

结合衍射理论和矩阵光学方法得出抛物面型X射线组合折射透镜的光学性能指标(包括其焦距的严格表达式、薄透镜近似的判定准则、透过率和有效孔径,以及极限聚焦光斑尺寸等).采用X射线深度光刻技术实际制作了PMMA材料抛物面型X射线组合折射透镜并给出了工艺测试结果.最后在北京同步辐射装置(BSRF)上,实际构建了基于3种不同结构参数的PMMA材料抛物面型X射线组合折射透镜的微束聚焦实验系统.并实际测试了其聚焦性能,均获得了良好的聚焦效果,给出实测结果并对实测结果进行了分析和讨论.     

Bulk工艺气体微网探测器的研究

In this paper, we present a study of a micromegas detector prototype built with bulk technology. Following a short discussion of the micromegas detector＇s structure and working mechanism, the bulk fabrication process is described, and some testing results of the prototype are presented.     

Study of a bulk-Micromegas with a resistive anode

The design and performance of a Micromegas with a resistive anode are presented in this paper. A thin resistive sheet with volume resistivity of 10¹² Ω·m cm is glued onto the readout electrode surface and its performance is investigated by using a ⁵⁵Fe X-ray radioactive source in the operation gas of argon and isobutene mixtures (Ar/Iso=95/5). The gas gain at different mesh high voltage, counting rate and working time are given. Energy spectra at different working voltages are measured and the results are discussed. We have oberved that a Micromegas with a resistive anode can be operated at higer gain than a standard Micromegas without sparks.     

氟化锂团簇基纳米相薄膜的慢正电子研究

用慢正电子束流装置研究了氟化锂团簇沉积在单晶硅衬底上构成的纳米相薄膜,获得了正电子湮没S参数和有效扩散长度L_eff. 讨论了制备条件(如衬底温度、蒸发速率、惰性气体分压等)对薄膜微观结构的影响.     

同步辐射讲座第五讲微电子机械系统加工新方法--LIGA技术

简述了微电子机械系统的起源和特点，介绍了LIGA技术的基本原理以及一些相关技术，对同步辐射深度光刻的技术要求进行了详细地说明，并介绍了国内外利用LIGA技术进行微电子机械系统研发的现状。