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Monatshefte für Chemie - Chemical Monthly - A comparative analysis is performed on the stability constants $${\upbeta }_{1yn}$$ and intramolecular redox decomposition rate constants $$k_{n\; =...  相似文献   
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We report new results on the diffraction properties of photoinduced gratings in InGaAs/InGaAsP MQW structures. The original feature of this device is that the QWs are enclosed in an asymmetric Fabry–Perot microcavity in order to increase the diffraction efficiency. We observe oscillations in the diffraction efficiency due to resonant effects in the microcavity. The experimental spectra are compared with theory. Diffraction efficiency at 1.55 μm attains a maximum value of 2.7% at a write beam fluence of 260 μ J cm−2, and then decreases at higher fluences. We explain this phenomenon by an absorption saturation at high excitation.  相似文献   
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An anomalous modulation in the wavelength spectrum has been observed in lasers with spot-size converters. This intensity modulation is shown to be caused by beating between the fundamental lasing mode and radiation modes in the taper. This results in a periodic modulation in the net gain spectrum, which causes wavelength jumps between adjacent net gain maxima, and a drive current dependent spectral width that is expected to affect system performance. The amplitude of this spectral modulation is reduced significantly by either using an angled rear-facet which reflects the beating radiation modes away from the laser axis, or by using a nonlinear, adiabatic taper.  相似文献   
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We have characterized multidielectric scaled SONOS nonvolatile memory structures with the quasi-static linear voltage ramp (LVR) technique and dynamic pulse measurements. We have formulated physically-based ERASE/WRITE and retention methods with deep level amphoteric traps which capture and emit carriers to the bands in the silicon nitride film. Amphoteric trap parameters are extracted by the LVR technique. ERASE/WRITE and retention amphoteric trap model simulations agree well with the experimental dynamic pulse measurements. Experimental scaled SONOS structures have been fabricated with tunnel oxide XOT=20 Å, nitride XN=30 Å and blocking oxide XOB=55 Å and demonstrated a static flatband shift of 3.6 V with ±5 V programming voltages. These structures may be used as the nonvolatile memory element in high density VLSI circuits.  相似文献   
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