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1.
催化荧光法测定痕量草酸   总被引:3,自引:0,他引:3  
在硫酸介质中 ,草酸能催化重铬酸钾氧化罗丹明B褪色 ,使体系荧光猝灭 ,建立了催化荧光法测定草酸的新方法。催化反应在 50℃水浴中进行 1 0min ,为假零级反应。测定草酸的线性范围为 0 4~ 1 2 0mg·L- 1 ,其回归方程为ΔF =8 42c(mg·L- 1 ) 3 81 ,r=0 9983 ,检出限为 0 1 6mg·L- 1 。试验了 30种共存物质的干扰情况。此法用于生物样品中草酸含量的测定 ,结果满意。  相似文献   
2.
由于轧网车间高压电机控制部分,中间环节多,线路较复杂,且线路有部分老化,时常出现故障,不便于维护,在改用控制继电器后,不但简化了线路,而且很可靠,为生产提供了有力的保证.  相似文献   
3.
讨论L-型域上Toeplitz C*-代数C*(Ω)所对应广群G的拓扑结构.用Euclid空间加法闭子群的分类方法对G的单位空间M的拓扑结构进行了详细刻画。  相似文献   
4.
缓冲溶液pH计算公式的推导   总被引:1,自引:0,他引:1  
酸碱缓冲溶液在分析化学中的应用是多方面的 ,因此酸碱缓冲溶液 pH的计算是分析化学中必不可少的一个内容。目前 ,高师院校的分析化学多采用华中师范大学等校编的《分析化学》(第 2版 ) ,笔者在几年的教学中 ,发现该教材在缓冲溶液 pH计算的公式推导中存在疏漏。为此 ,在比较其他教材中该章节的内容后 ,从酸碱平衡最本质的内容PBE出发 ,提出一种新的缓冲溶液pH计算公式推导方法。1 华中师范大学版教材中的问题[1]  以一元弱酸及其共轭碱体系进行讨论 ,设弱酸HA浓度为ca,共轭碱NaA浓度为cb。将HA A-体系以H2 O作媒…  相似文献   
5.
氧化藏红T褪色催化荧光法测定痕量钒   总被引:13,自引:3,他引:13  
陈兰化  罗兵 《分析化学》1997,25(6):656-658
研究了在酸性介质中柠檬酸存在下,痕量钒(V)催化溴酸钾氧化藏红T的褪色反应及其动力学条件,建立了催化荧光测定痕量钒的新方法。催化反应在沸水浴中进行8min,为假零级反应,反应的表观活化能力为99.21kJ/mol,反应速度常数为0.12/s;该方法的检出限为2.2×10^-8g/L;线性范围为0.2 ̄2.4μg/L研究了共存离子的影响,用于人发和煤灰中痕量钒的测定,结果令人满意。  相似文献   
6.
自控式微型气体发生器的研制   总被引:1,自引:0,他引:1  
王锦化 《化学通报》1997,(10):59-60
自控式微型气体发生器的研制王锦化(徐州师范大学化学系221009)近年来,美、德、日等工业化国家的高校及科研部门已较广泛地采用微型化学实验,并推出了多种成套微型仪器。我国也将研制微型化学实验仪器列为国家教委科研项目,同时也相继研制出了多种微型仪器,使...  相似文献   
7.
全封闭式氨喷泉实验的新方法   总被引:1,自引:0,他引:1  
全封闭式氨喷泉实验的新方法王锦化(徐州师范大学化学系221009)氨喷泉实验是无机化学教学中能充分说明氨在水中具有很大溶解度的演示实验。由于经典实验方法[1]对氨和收集氨的装置的干燥程度要求高,稍有水分就易导致实验失败。另外当氨集满转换装置时易溢漏,...  相似文献   
8.
阐述了一种新型锂离子电池用PVDF-HFP(聚偏氟乙烯-六氟丙烯聚合物树脂)基聚合物电解质复合膜的制备过程. 对复合膜中使用的无机TiO2纳米颗粒进行固体超强酸化处理, 并进行颗粒表面酸强度H0测试、XRD晶体结构分析以及复合膜的电解液吸附率测试和电化学阻抗谱测试. 采用PE无纺布支撑体作为增强材料, 以浸涂方法制备复合膜,并进一步组装为锂离子电池, 性能测试表明该电池具有良好的电化学性能.  相似文献   
9.
介绍一种简单方便地合成O-二异丙氧磷酰基丝氨酸(或苏氨酸或酪氨酸)的方法.其中O-二异丙氧磷酰基-L-丝氨酸(或苏氨酸)可从对应的N-磷酰化-L-丝氨酸(或苏氨酸)利用磷酰基N→0迁移的性质并在超声辅助下合成,而N-二异丙氧磷酰基-L-丝氨酸(或苏氨酸)的合成由L-丝氨酸(或苏氨酸)在次氯酸钠的水溶液中高收率地获得.O-二异丙氧磷酰基酪氨酸的合成可通过铜盐同时保护氨基和羧基,使用二异丙基磷酰氯为磷酰化试剂磷酰化,用硫化氢脱铜保护制备.  相似文献   
10.
在用琥珀酸二异辛酯磺酸钠(AOT)构建的具有长程有序结构的层状溶致液晶内, 用不同方式导入预制的亲油或亲水贵金属纳米粒子, 可得到纳米粒子分布在不同介观空间内的无机/有机杂合体. 依据小角X射线散射和偏光显微镜结果, 通过分析掺杂纳米粒子与液晶模板的相互作用, 对掺杂前后体系结构的变化及制得杂合体的稳定性进行了表征. 结果表明, 除考虑掺杂粒子与层状模板空间的匹配外, 体系中静电斥力、范德华引力和Helfrich涨落力之间的平衡是维持液晶结构稳定的基本条件.  相似文献   
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