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22nm极紫外光刻物镜热和结构变形及其对成像性能影响 总被引:1,自引:0,他引:1
极紫外光刻技术(EUVL)是半导体制造实现22nm及其以下节点的下一代光刻技术。在曝光过程中,EUVL物镜的每一面反射镜吸收35%~40%的入射极紫外(EUV)能量,使反射镜发生热和结构变形,影响投影物镜系统的成像性能。基于数值孔径为0.3,满足22nm技术节点的产业化EUV投影物镜,采用有限元分析(FEA)的方法研究反射镜变形分布,再将变形导入光学设计软件CODE V中,研究反射镜变形其对成像特性的影响。研究结果表明:当达到硅片的EUV能量为321mW,产量为每小时100片时,反射镜最高升温9.77℃,通光孔径内的最大变形为5.89nm;若采用相干因子0.5的部分相干光照明,变形对22nm线宽产生6.956nm的畸变和3.414%的线宽误差。 相似文献
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1 引言 九年义务教育<数学课程标准>强调要加强数学学习和现实之间的联系,数学教师在教学工作中要充分贯彻联系生活和数学应用的思想,让学生具有实践活动的机会,运用数学知识解决现实问题,让学生用数学的眼光看待现实生活,结合生活实际学习数学,笔者在<三角形的边>的教学进行了一些有益的探索,供大家参考. 相似文献
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从一道调考试题出发,从命题人角度延深探究,介绍网格中的常见问题及基本方法,从一题多解角度诠释对学生数学核心素养的培养. 相似文献
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由硅酸酯合成单分散二氧化硅中碳的化学形态 总被引:1,自引:0,他引:1
单分散二氧化硅是指尺寸分布十分狭窄的二氧化硅颗粒.单分散颗粒在科学研究及工业应用中得到了广泛的应用[1].单分散二氧化硅由正硅酸有机酯在氨催化下于醇溶液中水解缩合得到.硅酸酯的水解和缩合反应可用如下反应描述.总的反应式为:nSi(OR)4+2nH20→nSiO2+4nROH1956年Kolbe[2]发现正硅酸乙酯(TEOS)在碱催化下于乙醇溶剂中水解反应有时会形成均一颗粒二氧化硅以来,许多学者对这一反应体系进行了较为广泛的研究,提出了双分子缩合成核机理、单分子叠加生长机理、表面反应控制生长机理、扩散控制生长机理和微晶核团聚生… 相似文献
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原位X射线衍射法研究合成低碳醇的Cu-Co-Al催化体系的活性物相 总被引:2,自引:0,他引:2
提供了一个原位X射线衍射池,可在250—260℃,50—60 atm下操作,并能保持在原气氛直接进行测试。采用该池研究了CO+H_2合成C_1-C_4醇的Cu-Co-Al催化剂体系。实验表明:共沉淀后的催化剂,经分解得到的氧化态物相为CuO和Co_3O_4。在催化剂还原过程中,由于Cu和Co的互溶和相互扩散,形成了CO-Cu固溶体。在反应条件下进一步证明,只有经共沉淀制备的催化剂,才能生成Co-Cu固溶体,也只有在Co-Cu固溶体作用下才能生成C_1-C_4等醇类。对不同还原和反应阶段的催化剂的催化产物进行分析的结果表明:随着固溶体物相的不断生成,低碳醇的量也相应增加。证明Co-Cu固溶体是催化剂在反应状态下生成低碳醇的活性物相。 相似文献
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在相位光栅位置测量系统中,加工、后处理等工艺会导致光栅结构发生非对称性变形,增加了位置测量误差.因此,建立了非对称性光栅的衍射场理论模型,分析了光栅非对称性对位置测量精度的影响,并根据不同衍射级次对非对称性敏感度的差异提出了一种多衍射级次权重优化方法,以修正光栅非对称性变形引入的测量误差.实验结果表明,当光栅中心槽深为入射波长的1/4时,顶部倾斜非对称性和底部倾斜非对称性对测量精度的影响可以忽略;当占空比为0.5时,侧壁非对称性对测量精度的影响可以忽略.非对称性引入的位置误差,经多衍射级次权重优化法修正后可控制在0.05 nm以内. 相似文献
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本文对于迭代法提出一种基本思想类似于多层网格法的快速算法——多层迭代法,并把它初步应用于材料非线性的有限元计算中.计算实例表明:这种方法在加速迭代收敛,减少迭代次数及缩短计算时间上具有良好的效果. 相似文献