关于大气中的非线性Benjamin-Ono方程及其推广

本文利用多重尺度方法研究了大气中两层浅水波方程的非线性问题。文中指出:在经向扰动速度不太强的情况下,可以得到一个非线性Benjamin-Ono方程,并对它的代数孤立波和周期波进行了计算。同时还讨论了代数孤立波的演变过程,发现它在演变过程中可发生分裂,并产生波形的突陡,这可解释大气中的飑线过程。另外还指出:在经向扰动速度较强的情况下,可以得到一个修正的Benjamin-Ono方程,即Benjamin-Ono-KDV方程。     

ON THE Benjamin-Ono EQUATION AND ITS GENERALIZATION IN THE ATMOSPHERE

This paper deals with the nonlinear problems of the two-layer shallow water wave modelin the atmosphere by the multiple scale method and points out that a nonlinear Benjamin-Ono equation may be obtained if the meridional disturbance wind is weak. Furthermore, thealgebraic solitary waves and nonlinear periodic waves are also calculated and the breakup ofan algebraic solitary wave at the initial time into two is discussed. It is found that the waveform steepens in this process, which is similar to the triggering process of squall lines inthe atmosphere. On the other hand, we also point out that when the meridional disturbancewind is strong, we may obtain a modified Benjamin-Ono equation, i. e. the Benjamin-Ono-KDV equation.     

CMP加工后芯片三维形貌表征参数体系

针对当前化学机械抛光(chemical mechanical polishing, CMP)后的芯片表面形貌的表征常常只停留在研究二维轮廓特征,无法完整地表达整个三维表面形貌信息,仅使用单一的评定指标来表征其表面的不平整程度等问题,建立了1个科学、全面的芯片表面形貌评定参数体系应用于工程表面粗糙度评定中,通过分析芯片表面形貌的幅值分布特征,结合芯片表面的统计特性,基于ISO 25178-2标准表征参数建立适用于芯片表面三维评定的表征参数体系. 仿真结果表明:CMP加工后芯片表面形貌的幅值近似服从高斯分布;分形维数D可以准确表征芯片表面形貌,反映其复杂程度;通过幅度参数、空间参数、混合参数和分形参数建立的芯片表面形貌评定体系能够从多方面表征芯片三维表面形貌特征,对芯片表面形貌参数评定具有一定的可行性.