轴对称圆环壳复变量方程的逼近——渐近解法

求解轴对称圆环壳的复变量方程,一般用级数方法和渐近方法。众所周知,级数解仅对μ=12(1-V~2)~(1/2)(a~2/r_0h)较小的圆环壳才有很好的收敛性;相反,渐近解却对μ值较大的圆环壳才得到很好的近似。本文是在过去工作的基础上,采用逼近——渐近方法,求出了对μ值一致有效的解。计算表明,对于μ=0.5的细环壳,逼近——渐近方法给出的结果和级数解的结果是一致的,而渐近解的误差较大;对于μ=15,逼近——渐近方法给出的结果和渐近解的结果一致。     

非对称磁镜场电子回旋共振氧等离子体刻蚀化学气相沉积金刚石膜

分别应用郎缪尔双探针和离子灵敏探针对非对称磁镜场电子回旋共振氧等离子体的电子参数、空间分布和离子参数进行了测量,分析了气压对等离子体参数及空间分布的影响。利用该等离子体在优化的气压条件下对化学气相沉积金刚石膜进行了刻蚀,并研究了刻蚀机理。结果表明:电子温度为5~10 eV,离子温度为1 eV左右,而等离子体数密度在1010cm-3数量级。随气压的升高,电子和离子温度降低,而电子数密度先增大后减小。在低气压下等离子体数密度空间分布更均匀,优化的刻蚀气压为0.1 Pa。刻蚀过程中,离子的回旋运动特性得到了加强,有利于平行于金刚石膜表面的刻蚀,有效地保护了金刚石膜的晶界和缺陷。     

非对称磁镜场电子回旋共振氧等离子体刻蚀化学气相沉积金刚石膜

分别应用郎缪尔双探针和离子灵敏探针对非对称磁镜场电子回旋共振氧等离子体的电子参数、空间分布和离子参数进行了测量,分析了气压对等离子体参数及空间分布的影响。利用该等离子体在优化的气压条件下对化学气相沉积金刚石膜进行了刻蚀,并研究了刻蚀机理。结果表明：电子温度为5～10 eV,离子温度为1 eV左右,而等离子体数密度在1010 cm-3数量级。随气压的升高,电子和离子温度降低,而电子数密度先增大后减小。在低气压下等离子体数密度空间分布更均匀,优化的刻蚀气压为0.1 Pa。刻蚀过程中,离子的回旋运动特性得到了加强,有利于平行于金刚石膜表面的刻蚀,有效地保护了金刚石膜的晶界和缺陷。     

以三苯三戊并烯或窗茚满为核心的非平面纳米石墨烯（英文）

总结了我们近年合成的以三苯三戊并烯或窗茚满为骨架的非平面纳米石墨烯之研究成果.巫师帽形或鞍形的纳米石墨烯可由非经典的Scholl环庚三烯环化或19元环大环化反应制备.这些反应成功的关键是在这些分子的湾区区域引入恰当的富电子芳香官能团,通过X射线晶体学,一些纳米石墨烯的三维结构可以得到确定.此外,这些富含碳的π-共轭分子还显示出有趣的光物理、自缔合和主-客体络合的特性.     

旋转薄壳的有限元分析

本文对旋转薄壳的位移、应力问题,提出了一种有效的曲线单元,可以计算曲率、壁厚及斜度有突变的各种形状的旋转薄壳。对非轴对称载荷问题,在圆周方向采用Fourier级数展开,是半解析的有限元法。     

低气压直流辉光等离子体实验装置

介绍了低气压下直流辉光放电等离子体的实验装置,该装置具有结构合理、调节方便、测量参数多等特点,可在其上开展等离子体参数测量、等离子体激发机理研究等多项教学实验。     

分子束外延

分子束外延是七十年代初在真空蒸发外延的基础上发展起来的一种新的外延技术．它是把要蒸发的外延物质,放在喷射炉中,在１０－１０托以上超高真空的喷射室内加热,使物质蒸发．蒸气分子从喷射炉的小孔射出,成为分子束,直接在保持有一定温度的衬底上淀积（见图１）．从分子一个一个地粘附在衬底表面形成外延淀积这一点来看,分子束外延与真空蒸发外延本质上相同．但普通真空蒸发系统的真空度为１０－６托左右,系统内残留的?...