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1.
碳氢(cH)及其掺杂材料常被用作ICF实验靶丸烧蚀层材料。制备CH薄膜及其掺杂材料的方法有很多,诸如:离子束辅助沉积、离子溅射沉积、低压等离子体化学气相沉积(LPPCVD)等。近年来,详细研究了LPPCVD法制备CH薄膜的制备方法与工艺,形成了比较成熟的技术路线与工艺路线,并为“神光”实验提供了一系列实验靶丸。 相似文献
2.
3.
4.
溅射功率对直流磁控溅射Ti膜结构的影响 总被引:3,自引:2,他引:3
采用直流磁控溅射方法制备了纯Ti膜,研究了不同功率下Ti膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构,并对其应力进行了研究。研究表明:薄膜的沉积速率随溅射功率的增加而增加,当溅射功率为20 W时,原子力显微镜(AFM)图像显示Ti膜光洁、致密,均方根粗糙度最小可达0.9 nm。X射线衍射(XRD)分析表明薄膜的晶体结构为六方晶型,Ti膜应力先随溅射功率增大而增大,在60 W时达到最大值(为945.1 MPa),之后随溅射功率的增大有所减小。 相似文献
5.
采用磁控溅射法制备金团簇纳米颗粒,用透射电镜(TEM)、X射线衍射(XRD)、紫外可见光分光光度计(UV-Vis)和X射线光电子能谱(XPS)等分析手段对其表征,研究了金团簇纳米颗粒的形貌、颗粒度、结构、光吸收性质及物质成份。研究结果表明:制备的金团簇纳米颗粒呈球形,平均粒径在10 nm左右,粒径分布均匀,无团聚、氧化现象,颗粒的结构为面心立方。在519 nm处出现团簇颗粒的表面等离子共振吸收峰,测试得到Au(4f7/2)和Au(4f5/2)电子的结合能分别为83.3 eV和86.9 eV,并且没有出现金的氧化产物。 相似文献
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7.
由于DT或DD固态层的折射率很低,而且,其厚度只有几微米到几十微米。这使得光通过DT或DD燃料层时产生的光学路径也只有几微米到几十微米,远小于ICF靶丸。因此,尽管长期以来使用传统的光学干涉仪测定透明ICF靶丸的壁厚,它们却很难用来精确测定DT或DD固态层的厚度。相反,全息照相技术允许直接测定燃料层的厚度,而极大地忽略ICF靶丸的壁厚。在现在的研究中,已经建立全息照相装置,并且已用来测量ICF模拟靶丸的壁厚和气体的厚度。 相似文献
8.
9.
Optical Properties of Co-BaTiO3/Mg(100) Nano-Composite Films Grown by Pulsed Laser Deposition Method 下载免费PDF全文
Co nanoparticles embedded in a BaTiO3 matrix, namely Co-BaTiO3 nano-composite films are grown on Mg(100) single crystal substrates by the pulsed laser deposition (PLD) method at 650℃. Optical properties of the CoBaTiO3 nano-composite films are examined by absorption spectra (AS) and photoluminescence (PL) spectra. The results indicate that the concentration of Co nano-particles strongly influences the electron transition of the Co BaTiO3 nano-composite films. The PL emission band ranging from 1.9 to 2.2eV is reported. The AS and PL spectra suggest that the band gap is in the range of 3.28-3.7eV. 相似文献
10.
采用无模板化学气相沉积法,以二茂铁为催化剂,二甲苯为碳源,利用单温炉加热装置制备了定向碳纳米管阵列。运用扫描电子显微镜、透射电子显微镜、拉曼光谱和X射线衍射仪等对定向碳纳米管阵列的形貌、成分和物相进行细致的分析和表征。结果表明:制得的碳纳米管阵列具有良好的定向性和多壁管状结构,并且石墨化程度高;碳纳米管中除碳元素外,管中包含有少量以纳米颗粒和纳米线形式存在的铁及其化合物,主要成分是铁和碳化铁。结合碳纳米管的制备和透射电子显微镜分析表征结果,认为超长碳纳米管阵列的生长模式为底部生长方式,即经历催化剂分解、催化、成核、长大、中毒、凝聚成粒和连接成线的循环过程,正是由于碳源和催化剂的连续供应促成了碳纳米管阵列的快速定向生长。 相似文献