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晶体学
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2009年
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1
1.
氧气氛退火对TiO_2薄膜结构和成分的影响
赵利利
伍登学
刘成士
廖志君
卢铁城
《人工晶体学报》
2009,(Z1)
采用电子束蒸发在硅衬底上制备TiO2薄膜,并在氧气氛下进行退火处理。分别使用X射线衍射仪和椭圆偏振仪分析退火前后以及不同退火温度下薄膜样品的结构、成分和折射率,研究氧气氛下进行退火对薄膜结构、成分和折射率的影响。结果表明:氧气氛下退火能够有效地改善薄膜缺氧的问题,提高TiO2薄膜的质量。
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