k-Hankel Gabor Transform and Its Applications to the Theory of Localization Operators

Analysis Mathematica - We introduce and study the k-Hankel Gabor transform. We investigate the localization operators for this transform. In particular, we study their trace class properties and we...     

Effective field and the Bloch-Siegert shift at bichromatic excitation of multiphoton EPR

The dynamics of multiphoton transitions in a two-level spin system excited by transverse microwave and longitudinal RF fields with the frequencies ω_mw and ω_rf, respectively, is analyzed. The effective time-independent Hamiltonian describing the “dressed” spin states of the “spin + bichromatic field” system is obtained by using the Krylov-Bogoliubov-Mitropolsky averaging method. The direct detection of the time behavior of the spin system by the method of nonstationary nutations makes it possible to identify the multiphoton transitions for resonances ω₀ = ω_mw + rω_rf (ω₀ is the central frequency of the EPR line, r = 1, 2), to measure the amplitudes of the effective fields of these transitions, and to determine the features generated by the inhomogeneous broadening of the EPR line. It is shown that the Bloch-Siegert shifts for multiphoton resonances at the inhomogeneous broadening of spectral lines reduce only the nutation amplitude but do not change their frequencies.     

镧掺杂水滑石材料的热分解过程研究

采用共沉淀法制备了系列La掺杂改性的含Cu类水滑石,高温焙烧得到其衍生混合氧化物材料,并用XRD,TG-DSC,FT-IR等对材料进行表征.结果表明,前驱物XRD图谱呈典型的水滑石衍射特征且颗粒结晶良好;经800℃焙烧后,掺杂La2O3含量为5.1%的样品仅有Mg1-xFexO晶相出现,说明La的掺杂提高了材料的高温稳定性,混合氧化物中的Cu离子呈高分散状态.     

AGS能量下π~－π~－的Bose—Einstein关联

全同粒子间的玻色－爱因斯坦关联可以用来研究相对论性核碰撞中次级粒子源分布及有关的物理问题．本文用强子级联模型（ＨＣＭ）模拟２８Ｓｉ（１４．６ＡＧＣＶ／ｃ）＋Ａｕ反应，得到π－粒子的ｆｒｅｅｚｅ－ｏｕｔ状态，进而计算了π－π－关联函数，取得与实验一致的结果．还计算了ｆｒｅｅｚｅ—ｏｕｔπ－源的均方根线度，并讨论了它与拟合方法抽取的源参数间的关系．     

广义Schur补的广义逆

对四分块矩阵A=A(︿) A(︿,︿′)A(︿′,︿) A(︿′)来说 ,如果 A和 A(︿)都是非奇异的 ,则A- 1 (︿′) =(A/︿) - 1 ,这里 A/ ︿=A(︿′) -A(︿′,︿) A(︿) - 1 A(︿,︿′)是 A(︿)在 A中的 Schur补 .王伯英教授指出上述等式 ,对半正定的 Hermitian矩阵而言 ,一般也是不能推广到 Moore-Penrose逆上去的 .在某些限制条件下 ,我们证明了广义逆的主子矩阵与广义 Schur补的关系是密切的 ,它使经典结果成为特例     

具有HfN/HfO2栅结构的p型MOSFET中的负偏置-温度不稳定性研究

研究了HfN/HfO₂高K栅结构p型金属-氧化物-半导体(MOS)晶体管(MOSFET)中，负 偏置-温度应力引起的阈值电压不稳定性(NBTI)特征.HfN/HfO₂高K栅结构的等效 氧化层厚度(EOT)为1.3nm，内含原生缺陷密度较低.研究表明，由于所制备的HfN/HfO₂ 高K栅结构具有低的原生缺陷密度，因此在p-MOSFET器件中观察到的NBTI属HfN/HfO2高K栅结构的本征特征，而非工艺缺陷引起的；进一步研究表明，该HfN/HfO₂高K栅结构中观察到的NBTI与传统的SiO₂基栅介质p-MOSFET器件中观察 到的NBTI具有类似的特征，可以被所谓的反应-扩散(R-D)模型表征： HfN/HfO₂ 栅结构p-MOSFET器件的NBTI效应的起源可以归为衬底注入空穴诱导的界面反应机理，即在负 偏置和温度应力作用下，从Si衬底注入的空穴诱导了Si衬底界面Si-H键断裂这一化学反应的 发生，并由此产生了Si^＋陷阱在Si衬底界面的积累和H原子在介质层内部的扩散 ，这种Si^＋陷阱的界面积累和H原子的扩散导致了器件NBTI效应的发生. 关键词： 高K栅介质 负偏置-温度不稳定性(NBTI) 反应-扩散(R-D)模型