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Ohne ZusammenfassungI.H. Schmid undG. Muhr, Ber. dtsch. chem. Ges.70, 421 (1937); II.H. Schmid, Z. Elektrochem.43, 626 (1937); III.H. Schmid, Atti X. Congr. internat. Chim. Roma2, 484 (1938); IV.H. Schmid undA. Woppmann, Mh. Chem.83, 346 (1952); V. und VI.H. Schmid undR. Pfeifer, Mh. Chem.84, 829, 842 (1953); VII.H. Schmid, Mh. Chem.85, 424 (1954); zusammenfassender Ber.:H. Schmid, Chemiker-Ztg.78, 565, 683 (1954); VIII.H. Schmid, Mh. Chem.86, 668 (1955); IX.H. Schmid undA. F. Sami, Mh. Chem.86, 904 (1955); X.H. Schmid undE. Hallaba, Mh. Chem.87, 560 (1956); XI.H. Schmid undA. Woppmann, Mh. Chem.88, 411 (1957);H. Schmid, Mh. Chem.88, 161, 344 (1957); XII.H. Schmid undM. G. Fouad, Mh. Chem.88, 631 (1957);H. Schmid, Österr. Pat. 191 399, Kl. 12e2 (Juni 1957);H. Schmid, Chemiker-Ztg.81, 603 (1957); XIII. und XIV.H. Schmid undCh. Essler, Mh. Chem.88, 1110 (1957);90, 222 (1959); XV.H. Schmid undA. Woppmann, Mh. Chem.90, 903 (1959); XVI.H. Schmid undCh. Essler, Mh. Chem.91, 484 (1960); XVII.H. Schmid undG. Muhr, Mh. Chem.91, 1198 (1960);H. Schmid, Mh. Chem.92, 174 (1961). 相似文献
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F. Atamny A. Baiker H.-J. Muhr R. Nesper 《Fresenius' Journal of Analytical Chemistry》1995,353(3-4):433-438
The morphological and structural properties of C60 films deposited on quartz substrates by sublimation at 320–500° C under high vacuum have been investigated using atomic force microscopy (AFM) and reflection X-ray diffraction (RXRD). The thickness of the films varied between 0.2 m and 10 m. AFM showed that the films consist predominantly of cubic crystals of a few micrometer in size with well-developed (111) and (100) faces. The crystallographic investigation revealed a strongly preferred [111] growth direction which is very sensitive to the deposition rate and substrate temperature. The influence of the experimental parameters on the morphology of the crystals and on the preferred orientation of the films is discussed in view of the AFM and RXRD results. 相似文献
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