UNIQUENESS, ERGODICITY AND UNIDIMENSIONALITY OF INVARIANT MEASURES UNDER A MARKOV OPERATOR

Let X be a compact metric space and C（X） be the space of all continuous functions on X. In this article, the authors consider the Markov operator T ： C（X）N C（X）N defined by
for any f = （f1,f2,… ,fN）, where （pij） is a N x N transition probability matrix and {wij } is an family of continuous transformations on X. The authors study the uniqueness, ergodicity and unidimensionality of T＊-invariant measures where T＊ is the adjoint operator of T.     

类锂铝离子能级结构及光谱线性质的理论计算

用Ｈａｒｔｒｃｅ－Ｆｏｃｋ－Ｒｅｌａｔｉｖｉｓｔｉｃ（ＨＦＲ）自洽场方法,计算类锂铝离子１ｓ＾２ｎｌ（ｎ＝２～７,ｌ＝０～５）,１ｓｎｌｎ’ｌ’（ｎ,ｎ’＝２～３,ｌ,ｌ’＝０～２）各能级值,电偶极跃迁谱线的光谱线性质（波长、振子强度和跃迁几率）,其波长计算值和现有文献结果符合得较好。特别是实验中已观察到的软Ｘ射线激光跃迁（３ｄ－４ｆ,３ｄ－５ｆ）的波长值与我们的计算值符合得也很好。     

相同稀有气体原子间近程排斥势的新探索

对相同稀有气体原子间电荷密度的重叠积分进行了计算。计算结果表明该重叠积分可以用来表示稀有气体原子间的排斥势。这为进一步更准确地探索原子间排斥势提供了一种开拓性的方法。     

波长1064nm脉冲激光高阈值反射膜的研制

 研究HfO₂/SiO₂高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试,分别采用了反应蒸镀HfO₂、反应离子辅助蒸镀HfO₂、反应离子辅助蒸镀金属Hf的源材料形成HfO₂薄膜。采用这三种工艺制备了HfO₂/SiO₂高反射膜,在中心波长1064nm处,反射率 R≥99.5%,其中反应蒸镀HfO₂/SiO₂高反射膜损伤阈值最高,可达60J/cm²(1064nm,5ns)。     

SiO_2半波覆盖层对HfO_2/SiO_2高反射膜激光损伤的影响

研究了 Si O2 半波覆盖层对 Hf O2 /Si O2 高反射膜 1 0 64nm激光损伤的影响 ,分析薄膜的激光损伤特性及图貌得出 ,对于单脉冲 ( 1 -ON-1 )激光损伤 ,Si O2 半波覆盖层能提高 Hf O2 /Si O2 高反射膜的激光损伤阈值 ;可显著降低激光损伤程度 ,减小灾难性损伤发生的概率 ;可大幅度提高 Hf O2 /Si O2 高反射膜的抗激光损伤能力     

液态镓在石墨烯表面的润湿性及形貌特征

液态Ga及其合金的熔点低、毒副作用小、导电率高,使得这类液态金属能像石墨烯一样被广泛应用于微流器件、柔性电子器件中,制备这些器件的关键在于有效控制各生产环节中液态金属在固体界面上的润湿性及形貌特征.基于Lennard-Jones(L-J)势函数,利用分子动力学模拟方法研究了金属Ga在石墨烯表面的润湿性,根据模拟结果拟合的L-J势参数能正确描述Ga原子与衬底之间的相互作用并得到了与实验值极为接近的润湿角,发现衬底与液膜间相互作用的微小改变都会对最终润湿形态产生极大影响,平衡态的润湿角和脱离衬底速度随着Ga-C间势能的减小而增大,并成功获得了不同厚度的Ga液膜在石墨烯表面的形态演变规律,极为符合液态Ga的基本特性.利用所得L-J势函数参数模拟了液态Ga在粗糙度相同但纳米柱尖端形貌不同的C材料表面的润湿演变,发现纳米柱尖端形貌对液态Ga的润湿过程及状态影响极大.     

等离子体辅助沉积HfO_2/SiO_2减反、高反光学薄膜

本文报导了用等离子体辅助（Ｐｌａｓｍａ－ＩＡＤ）沉积技术沉积ＨｆＯ２／ＳｉＯ２减反及高反光学薄膜。在波长１０６４ｎｍ处，ＨｆＯ２／ＳｉＯ２减反膜透过率大于９９．５％，ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反膜反射率大于９９．５％。     

新型键合型纤维素类手性固定相的制备及安息香分离

采用六亚甲基二异氰酸酯作为键合试剂,制备了键合型纤维素3,5-二甲基苯基氨基甲酸酯手性固定相。分别往正己烷/乙醇或正己烷/异丙醇中添加四氢呋喃和二氯甲烷,系统地考察了四氢呋喃和二氯甲烷的含量对安息香外消旋体拆分的影响。实验结果表明,安息香两对映体的容量因子随二者含量的增加而降低,但分离效果变化不大,分离因子均在1.2以上。所制备的CSP在采用含有高浓度四氢呋喃(23%)、二氯甲烷的流动相进行手性分离时仍具有良好的稳定性。与涂敷型固定相相比,流动相选择范围更广。     

HfO2／SiO2高反射膜的缺陷及其激光损伤

用原子力、Normaski和扫描电子显微镜等分析仪器,对高损伤阈值薄膜常采用HfO2/SiO2薄膜进行了表面显微图象研究,分析了薄膜常见的表面缺陷,如节瘤,孔洞和划痕等。薄膜表面缺陷的激光损伤实验表明,不同缺陷的抗激光损伤能力不大相同。节瘤缺陷最低,约为15J/cm^2,薄膜的损伤阈值主要由其决定,孔洞的激光损伤能力与节瘤相比较高,约为节瘤的2－3倍。节瘤缺陷在低能量密度的激光损伤所形成的孔洞,与镀制过程中形成的孔洞形貌相似,激光再损伤能力也相似。低能量密度的激光把瘤缺陷变为孔洞缺陷是激光预处理提高薄膜损伤阈值的原因之一。     

波长1O64nm脉冲激光高阈值反射膜的研制

研究 Ｈｆ Ｏ２／ Ｓｉ Ｏ２ 高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试,分别采用了反应蒸镀 Ｈｆ Ｏ２、反应离子辅助蒸镀 Ｈｆ Ｏ２、反应离子辅助蒸镀金属 Ｈｆ 的源材料形成 Ｈｆ Ｏ２ 薄膜。采用这三种工艺制备了 Ｈｆ Ｏ２ ／ Ｓｉ Ｏ２ 高反射膜,在中心波长 １０６４ｎｍ 处,反射率 Ｒ≥９９．５％ ,其中反应蒸镀 Ｈｆ Ｏ２ ／ Ｓｉ Ｏ２ 高反射膜损伤阈值最高,可达 ６０ Ｊ／ｃｍ ２（１０６４ｎｍ ,５ｎｓ）。