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1.
0.351μm激光辐照Au盘靶吸收、散射规律的实验研究   总被引:3,自引:0,他引:3       下载免费PDF全文
在“星光Ⅱ”激光装置上,利用80只分立式探测器研究了约0.8ns,0.351μm激光辐照Au盘靶的吸收、散射.结果表明,强度约为5×1014W/cm2的激光以10°角入射,吸收可达90%以上;但是,以45°角入射,吸收仅为75%左右,散射高达25%.散射主要来自未被等离子体充分吸收的激光在弯曲临界面上的反射,同时伴随少量受激布里渊散射.吸收的理论计算与实验结果进行了比较,两者符合较好. 关键词:  相似文献   
2.
强激光在高Z等离子体中吸收的波长关系   总被引:2,自引:0,他引:2  
利用“神光Ⅰ”输出的~500J、1.05μm,~200J、0.53μm激光和“星光Ⅱ”输出的~70J、0.351μm激光,实验研究了激光与金圆盘靶作用产生的等离子体对激光的吸收,获得了激光10°、45°入射Au盘靶吸收的波长关系。实验结果与一维平面等离子体吸收模型计算的结果基本相符。  相似文献   
3.
氮杂金属冠醚(Azametallacrown,azaMC)以M-N-N为重复单元,主要由五齿的N-酰基酰肼阴离子配体与金属盐通过自组装而成,包括aza18-MC-6、aza24-MC-8、aza30-MC-10、aza36-MC-12、aza45-MC-15、aza60-MC-20等类型。它们不仅呈现出独特的物理性能和生物活性,而且还能作为“第二构筑单元(Second Building Units,SBUs)”构筑一系列金属冠醚配位聚合物。本文对氮杂金属冠醚的结构特征、分类及性质等进行综述。  相似文献   
4.
 为了估计聚变中子产额Cu活化测量法中加速器中子源刻度与实际测量中几何条件不一致对测量结果的影响,通过对MCNP进行二次开发,用蒙特卡罗方法计算了这两种情况下有角关联的γ γ符合探测效率,通过与刻度实验结果比较,验证了计算结果的正确性,得出了几何条件的差别引起探测效率的增加小于3%的结论。  相似文献   
5.
在黑洞靶实验中,加μs高压门和铅屏蔽体后,强X光辐射对BF3计数管阵列的干扰得到抑制同时,给出了BF3计数管阵列灵敏度在位标定结果。  相似文献   
6.
氮杂金属冠醚(azametallacmwn,azaMC)以M—N—N为重复单元,主要由五齿的N-酰基酰肼阴离子配体与金属盐通过自组装而成,包括aza18-MC-6、aza24-MC-8、aza30-MC-10、aza36-MC-12、aza45-MC-15和aza60-MC-20等类型。它们不仅呈现出独特的物理性能和生物活性,而且还能作为“第二构筑单元(second building units,SBUs)”构筑一系列金属冠醚配位聚合物。本文对氮杂金属冠醚的结构特征、分类及性质等进行了综述。  相似文献   
7.
德国在工业应用领域的激光技术十分先进,这受益于德国政府的长期大力支持。在 21 世纪的今天,德国政府更是制订若干投资计划,加大激光·光学技术的投资力度,促进企业界和科学界的合作,以保持和提高德国工业在世界上的竞争力。  相似文献   
8.
耿聪  郑慧  陈玉婷  姜建壮 《无机化学学报》2019,35(11):2152-2158
通过对2个N,N-二吡啶胺基受体修饰的自由卟啉化合物(Porphyrin-2-DPA)光学识别性能的系统研究,可以得知:该卟啉化合物中心刚性共轭的四吡咯环状结构不仅作为灵敏的光学信号基团、更是作为第一离子配位受体,在非共轭的N,N-二吡啶胺基受体辅助下,对Pb2+/Cu2+离子表现出灵敏的多重信号分析识别功能。  相似文献   
9.
 介绍了测定聚变中子产额铜活化法的原理 、γ-γ符合计数系统、软件结构和功能、标定等。γ-γ符合计数系统中,辐照样品的计数指令发出后,计数、存储、数据处理到输出最终测量报告,全部由计算机进行控制,提高了数据的可靠性和工作效率。  相似文献   
10.
以三(2-氯乙基)磷酸酯(TCEP)与十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为研究对象,分析了两种污染物对污水处理厂好氧污泥脱氢酶活性和耗氧速率的影响。结果表明:TCEP和CTAB对脱氢酶活性的半最大效应浓度(EC50)分别为9.20×10-11mol/L和5.30×10-7mol/L;对耗氧速率的最大抑制率分别为83.65%和12.21%。鉴于组分毒性终点值差别较大,采用等毒性配比法分析了TCEP-CTAB混合体系对脱氢酶活性的影响,获得酶活性抑制区间的联合效应EC50分别为8.30×10-11mol/L与3.26×10-6mol/L。进一步对TCEP-CTAB混合体系毒性作用类型进行评价,结果均显示为拮抗作用。相对于污泥耗氧速率,污染物对脱氢酶活性产生的胁迫响应幅度大、灵敏度高,可推荐该指标作为监控污染物对处理工艺的敏感指标。  相似文献   
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