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TaCl（NMe2）4（1）与Tp^＊K[Tp^＊=三（3,5-二甲基吡唑）硼化氢]的反应给出两个产物：第一个产物是Tp^＊Ta（NMe2）4（2）,其中Tp^＊配体的一个N原子跟钽配位成键 第二种产物是[Tp^＊Ta（NMe2）4]·2Tp^＊K（3）,其中[Tp^＊Ta（NMe2）4]（2a）的Tp^＊配体的三个N原子跟钽配位成键.过量的化合物1加入化合物3中并没有跟其中的Tp^＊K反应.化合物2与氧气的进一步反应给出产物Tp^＊BH（NMe2）（4）.通过类似的方法,化合物1与TpK[Tp=三（吡唑）硼化氢]的反应产出化合物TpTa（NMe2）4（5）.研究了化合物3和5与氧气的反应.用核磁共振,元素分析和单晶X射线衍射对化合物2,4,和5进行了表征. 相似文献
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众所周知,过渡金属如卟啉中的铁与氧气的结合和反应对许多生物功能和催化氧化至关重要．在这些反应中,过渡金属一般含d价电子,并且金属被氧化往往是其中一个重要的反应步骤．近年来,氧气与d^0过渡金属化合物如Hf（NR2）4（R=烷基）的反应被广泛用来制备金属氧化物薄膜以作为新型微电子器件中的栅（门）绝缘材料．这篇专题文章讨论我们近期对这些反应以及TiO2薄膜形成的研究．在许多氧气与d^0过渡金属化合物的反应中,总是金属被氧化．然而,在d^0过渡金属化合物如Hf（NMe2）4和Ta（NMe2）4（SiR3）与氧气的反应中通常是配体被氧化．如-NMe2和--SIR3配体分别形成了-0NMe2和--OSiR3配体．反应机理和理论方面的研究显示了微电子金属氧化物薄膜形成的途径． 相似文献
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