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采用CTAB(十六烷基三甲基溴化铵)为模板剂,Na2SiO3·10H2O为硅源,Cu(NH3)4(NO3)2为铜源,在常温下成功地合成出含铜质量分数高达26%,具有中孔结构的硅基氧化铜复合材料.较系统地研究了反应时间、温度、pH值和铜掺入量等对产物性能的影响.用XRD,HRTEM,FTIR,BET,TG-DTA,ICP和XPS等手段对合成产物的结构进行了表征. 相似文献
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