低温氧化与超薄介质层的生长及应用

低温氧化技术是生长１０－３０■任一超薄介质层的关键工艺．本文着重介绍低温氧化生长超薄介质层的物理机理和工艺原理．从超薄介质层在ＭＩＳ（金属－绝缘层－半导体）太阳电池中的应用，可以看出它的存在和作用，也是对低温氧化技术的检验．     

无标样X荧光分析软件UNIQUANT在标准物质定值和未知样品鉴定中的应用

采用一种新的Ｘ射线荧光ＵＮＩＱＵＡＮＴ软件分析方法,分析了土壤标准物质和未知样品,土壤标准物质的分析结果与标准值较吻合,除氧化钠和氧化镁的相对偏差较高外,其余氧化物的相对偏差在０～１０％之间。