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基于相对论平均场理论,研究了各种相互作用参数组(NL1、NL3、NLSH、TM1和GL-97)对中子星物质的性质和中子星整体结构的影响.发现参数组NL1、NL3和NLSH所给出的中子星内部的介子场强度、物质的组成比例、物态方程和中子星的整体特点基本相同,但与TM1和GL-97之间有较大的差别.相对于其他参数组,GL-97给出的介子场强度最弱,中子星的相对数密度最大,物态方程也最软,同时采用GL-97参数组计算的中子星的最大质量也最小. 相似文献
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在等离子体增强化学气相淀积系统中,采用aSi:H层淀积和原位等离子体氧化相结合的逐层生长技术制备了aSi:H/SiO_2多层膜.在激光诱导限制结晶原理基础上,使用KrF准分子脉冲激光为辐照源,对aSi:H/SiO_2多层膜进行辐照,使纳米级厚度的aSi:H子层晶化.Raman散射谱和电子衍射谱的结果表明,经过激光辐照后纳米Si颗粒在原始的aSi:H子层内形成,晶粒尺寸可以根据aSi:H层的厚度精确控制.还研究了样品的光致发光(PL)特性以及激光辐照能量密度对PL性质的影响.
关键词:
脉冲激光
多层膜
限制结晶 相似文献
7.
Novel Chiral Ferrocenyl Aziridino Alcohol Catalysts Promoting Asymmetric Addition of Diethylzinc to Aldehydes 总被引:3,自引:0,他引:3
Optically active aziridino alcohols containing ferrocenyl groups were prepared from commercially available L-threonine in excellent yields and used as catalysts to promote the asymmetric addition of diethylzinc to aryaldehydes to afford 1-arylpropanol in up to 84% enantiomeric excesses with moderate to good yields. 相似文献
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Hydrogen ions were implanted into separation by implantation of oxygen (SIMOX) silicon-on-insulator (SOI) wafers near the oxygen-implantation-induced damage peak under different conditions of energy and dose. It was found that the implanted hydrogen ions not only accelerate the diffusion of oxygen atoms from the annealing ambience into the wafer but also cause an outward diffusion of oxygen atoms in the buried oxide (BOX) layer. Thus, greatly broadened buried oxygen-rich (BOR) layers were formed in our experiments, which are 18%-79% broader than the BOX layer of standard SIMOX SOI wafers under the same conditions of oxygen implantation. The mechanism was discussed. A potential low cost method to fabricate SIMOX SOI wafers is proposed. 相似文献