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吸附溶出伏安法研究(Ⅰ)——铜(Ⅱ)存在下痕量半胱氨酸的测定 总被引：2，自引：0，他引：2
吸附溶出伏安法是近年发展起来的一种新的电分析方法。Kalvoda等对其机理及应用作了报导,孙长林等研究了铜(Ⅱ)存在下痕量半胱氨酸(RSH)的阴极溶出行为,认为所得溶出峰为吸附溶出峰。本文对其机理作了进一步探讨,证实了其电积过程为吸附过程。并用拟定的方法,无需前处理,测定了人血清中ppm级的RSH,结果满意。 相似文献
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