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1
1.
有序介孔硅片粒子表面的修饰及其表征
总被引:1,自引:0,他引:1
邢益高
王艳丽
苏海涛
崔秀国
孟万
杨福利
杨萍
《广州化学》
2009,34(2)
采用溶胶-凝胶的方法制备了粒径在50~300nm,具有正六边形的介孔二氧化硅片,用1,6-己二异氰酸酯(hexamethylene diisocyanate,HDI)对有序介孔硅片粒子表面进行有机化修饰,使其表面接枝能够参与反应的N=C=O活性基团。用FTIR、热重分析、TEM等分析方法对修饰后的有序介孔硅片粒子进行了表征,以确定HDI接在了有序介孔硅片粒子的表面。
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