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本文系统地报道单辊液淬方法制备FeTmB(Tm=Ti,V,Cr,Mn,Zr,Nb,Mo,Ta,W)非晶态合金的磁性,讨论了3d,4d,5d元素的加入对非晶态FeB合金的磁矩和居里温度的影响。实验结果表明在非晶态FeTmB合金系中Fe原子磁矩都在2.0μB左右。Tm原子在非晶态Fe基合金中比在相应的晶态合金中显示更强的局域特性。Tm原子的磁矩与元素的外层电子数有关,IVB(Ti),VB(V),VIB(Cr),VIIB(Mn)族原子的磁矩分别约为4,5,4,3μB,Tm的磁矩与铁原子磁矩反平行耦合。合金磁矩随Tm含量的变化率dμ/dx与混合模型的计算值相符合。用虚拟束缚态讨论,得到IVB(Ti),VB(V)族元素的虚拟束缚态在费密面以上,VIB(Cr),VIIB(Mn)族元素的虚拟束缚态与费密面交迭。
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研究了(Fe1-xWx)84.5B15.5(x=0—0.1)非晶态合金的电阻率ρ与温度T(4.2—300K)的关系。实验结果表明,在所研究浓度区域内均出现电阻率与温度关系的极小值,电阻率极小值的温度Tmin在x=0.06时出现峰值。用x=0.02—0.1浓度区域内,当Tmin时,又出现了电阻率与温度关系的极大值,电阻率极大值的温度Tmax在26—35K之间。低温电阻率反常现象与类Kondo效应及局域磁矩之间RKKY相互作用有关。
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本文研究了非晶态Fe_(87-x)Si_xB_(13)(x=0,9.6,14.5)合金的饱和磁化强度、电阻率与温度的关系。得到样品的居里温度T_C和晶化温度T_(cr)随Si含量的增加而明显提高。低温下的热磁关系符合布洛赫的T~(3/2)定律,计算出自旋波劲度系数D从x=0时的62meV·A~2增加到x=14.5时的111meV·A~2。从D值和Handrich理论分别推算出表示交换积分涨落的δ=<△J>~(1/2)/值相近。三个样品在低温区都出现电阻率的极小值,电阻率极小值的温度T_(min)从x=0时的10.5K增加到x=14.5时的24.6K。在T_(min)≤T≤130K和室温附近,电阻率分别与T~2和T成线性关系。用推广的Ziman理论讨论样品的电阻率与温度的关系。 相似文献
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对以本征Si及重掺杂p型和n型Si作为中间层的Fe/Si多层膜的层间耦合进行研究,并通过退火,增大Fe,Si之间的扩散,分析界面扩散对层间耦合的影响. 实验结果表明,层状结构良好的制备态的多层膜,Fe,Si之间也存在一定程度的扩散,它是影响层间耦合的 主要因素,远远超过了半导体意义上的重掺杂,使不同种类的Si作为中间层的层间耦合基本 一致.进一步还发现,在一定范围内增大Fe,Si之间的扩散,即使多层膜的层状结构已经有了相当的退化,Fe/Si多层膜的反铁磁耦合强度基本保持不变.
关键词:
Fe/Si多层膜
层间耦合
界面扩散 相似文献
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