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化学
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1.
先进光刻胶材料的研究进展
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许箭
陈力
田凯军
胡睿
李沙瑜
王双青
杨国强
《影像科学与光化学》
2011,29(6):417-429
本文简述了光刻技术及光刻胶的发展过程,并对应用于193纳米光刻和下一代EUV光刻的光刻胶材料的研究进展进行了综述,特别对文献中EUV光刻胶材料的研发进行了较为详细的介绍,以期对我国先进光刻胶的研发工作有所帮助.
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