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Introduction In the previous studies on the oxidation reaction,peroxydisulfate was widely used as an oxidizingagent.1-5 One of the advantages of this oxidant lies in itsstability in a wide range of pH values. The reaction be-tween Fe(CN)5L3- (L=N-aromatic heterocyclic li-gands) and S2O8 2- has been proved to proceed throughan outer-sphere electron transfer mechanism.5 For a re-action [(Eq. (1)] to be under an outer-sphere mechanismthe steps involved are the formation of a reactant … 相似文献
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核酸切割试剂与寡聚核苷酸(ODN)偶联制得的人工核酸酶能在特定位点断裂DNA或RNA,为人工核酸酶的分子设计提供了一种新方法.本文综述了金属配合物-ODN识别切割试剂的偶联方式及其与靶分子的作用机制,并指出了今后的研究方向. 相似文献
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在室温条件下合成了2个配合物[Ni(DBTA)(DMF)(H2O)4](1)和[Co(DBTA)(DMF)(H2O)4](2)(D-H2DBTA=D-(+)-二苯甲酰酒石酸,DMF=N,N-二甲基甲酰胺),并通过元素分析、FT-IR光谱、X射线单晶及粉末衍射表征了2个配合物的结构。X射线单晶衍射结果表明,2个配合物同构,属于单斜晶系,P21空间群。配合物由配位键形成零维结构,再通过分子间氢键形成三维网状结构。荧光分析表明当激发波长为280 nm时,配合物1和2具有较强的荧光。尽管2个配合物同构,但表现出不同的磁性质:配合物1主要表现出Ni2+离子间弱的反铁磁相互作用,而配合物2则表现为Co2+离子的磁各向异性以及Co2+离子间强的反铁磁相互作用。 相似文献
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不同电解质溶液对聚吡咯修饰膜性质的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
以对甲基苯磺酸钠(p-TSNa)为掺杂剂在不锈钢电极表面恒电位合成聚吡咯(PPy)修饰膜, 采用循环伏安法在-1.6 - 0.8 V大范围扫描研究了修饰膜在H2SO4、Na2SO4、NaOH电解质溶液中的氧化还原行为. 结果表明, 在H2SO4溶液中, 以H+的脱出(氧化)/嵌入(还原)为特征, 并发现聚吡咯在酸性溶液中所特有的质子还原峰. 在Na2SO4和NaOH溶液中, 以Na+的脱出(氧化)/嵌入(还原)峰为特征. FT-IR吸收光谱显示, 经NaOH处理后, 聚吡咯膜的长共轭结构被完全破坏, 而经H2SO4和Na2SO4处后, 膜的共轭结构未发生变化. 相似文献
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采用同轴静电纺丝法制备了碳包覆纳米SnO2中空纤维超级电容器电极材料.利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和比表面积分析仪(BET)对材料进行表征.结果表明,纤维呈现中空形貌,平均直径为1 μm; SnO2颗粒均匀分布于碳壳结构中,平均粒径为3-15 nm.材料的比表面积为565 m2·g-1.在三电极体系中,当电流密度为0.25 A·g-1时,电极材料的比容量达397.5 F·g-1;在1.0A·g-1电流密度下,充放电循环3000次后比容量仍保持为初始值的88%.在对称型双电极体系中,电流密度为0.25 A·g-1时,电极材料的比容量达162.0 F·g-1,在1.0 A·g-1电流密度下,充放电循环3000次后比容量仍保持为初始值的84%. 相似文献
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合成了一种配位聚合物{[Cu(HDTTA)2(DMF)(H2O)]·DMF·H2O}n(1)(D-H2DTTA=(+)-二对甲基苯甲酰-D-酒石酸,DMF=N,N-二甲基甲酰胺)。通过红外光谱、元素分析、X射线单晶衍射和粉末衍射表征了配合物1的结构。配合物1沿a轴为一维链状结构,在ab平面通过弱相互作用形成二维层状结构。热稳定性研究表明配合物1的主结构可在197℃以下稳定存在。在300 nm激发波长条件下,配体的荧光由于和Cu2+离子配位而猝灭。配合物1对水溶液中亚甲基蓝染料表现出良好的特异性吸附效果,作用49 min后吸附率可达81%。 相似文献
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使用分子力学方法模拟了化合物[Co(phen)2hpip]3+(phen=1,10 phenanthroline, hpip= 2-[2-hydroxyphenyl] imidazole [4,5-f][1,10]phenanthroline)对正常、错配序列DNA的识别作用及对错配DNA在构型上的修复作用. 模拟结果显示, 该配合物的两个手性异构体都从小沟方向特异性的识别正常DNA, 而从大沟方向特异性的识别剪式错配DNA与错配相邻的区域. 两个手性异构体都能将错配DNA的错配区域由剪式构型转变为平行构型, 其中右手异构体转变得更完美. 详细的分析发现, 在配合物插入碱基堆积过程中的空间位阻状况决定了识别作用的结果, 体现在以下两点: (1)辅助配体菲啰啉与DNA骨架及碱基的空间冲突情况; (2)骨架及碱基对在DNA为适应配合物的进入而发生扩张时的空间拥挤程度. 配合物对剪式错配构型的修复不但与空间相互作用有关, 还与配体hpip-碱基及碱基之间堆积的紧密程度有关. 相似文献
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本文合成并表征了过渡金属配合物Cd[(phen)2(NO3)2],运用紫外光谱、荧光光谱、黏度实验、分子模拟以及量子化学计算等方法研究了配合物与DNA的键合作用,结果表明配合物与DNA之间仅存在较弱的小沟键合作用;另外,凝胶电泳实验表明无论抗坏血酸存在与否配合物都几乎不切割DNA,而镉离子在相同的条件下却能够很好的切割DNA,所以我们可以看出镉配合物的生成减小了镉离子对DNA的损伤,从而在一定程度上降低了镉的致癌性,为降低隔的毒性提供了一种有效的方法。 相似文献
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为了探讨席夫碱配体上取代基变化对其配合物抑制蛋白酪氨酸磷酸酶(PTPs)活性的影响,合成表征了水杨醛缩芳胺席夫碱铜(Ⅱ)配合物[Cu(X-pimp)2](X=Cl,Br和Acetyl),用紫外光谱滴定和pH电位滴定研究了[Cu(Cl-pimp)2]的溶液结构,并测定了3个配合物抑制4种PTPs活性的IC50值。结果表明它们都能够有效抑制PTP1B和TCPTP(0.20μmol·L-1< IC50< 0.31μmol·L-1),但对SHP-1的抑制较弱且对SHP-2几乎无抑制作用。分析并与文献结果比较发现,席夫碱配体上苯胺对位取代基类型的改变不会显著影响其抑制作用,但取代基位置的改变可能会影响其选择性。稳态动力学研究表明[Cu(Cl-pimp)2]能够非竞争性抑制PTP1B活性,而荧光光谱实验表明二者形成了键合常数为9.3×106L·mol-1的1:1复合物。我们推测,配合物可能结合在PTP1B非活性区域,间接导致活性中心结构变化,从而抑制其活性。 相似文献