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1.
本文用密度泛函理论(DFT)的总能计算研究了一氧化碳和氢原子在Ni(111)表面上p(2×2)共吸附系统的原子结构和电子态,结果表明CO和H原子分别被吸附于两个对角p(1×1)元胞的hcp和fcc位置.以氢分子和CO分子作为能量参考点,总吸附能为2.81 eV,相应的共吸附表面功函数φ为6.28 eV.计算得到的C—O,C—Ni和H—Ni的键长分别是1.19?, 1.96?和 1.71?,并且CO分子以C原子处于hcp的谷位与金属衬底原子结合.衬底Ni(111)的最外两层的晶面间距在吸附后的相对变化分别是
关键词:
Fisher-Tropsch反应
催化作用
Ni(111) p(2×2)/(CO+H)
共吸附 相似文献
2.
运用层析法、结晶法从狭苞橐吾全草中分离得到艾里莫芬烷型倍半萜8β-hydroxyeremophil-7(11)-ene-12,8α(4β,6α)-diolide化合物,并通过质谱、核磁共振氢谱和碳谱、氢核-氢核相关谱、异核多量子相干谱和异核多键相干谱进行结构鉴定.其单晶经X射线衍射测试表明,其晶体属正交晶系,空间群为P212121,晶胞参数为: a=6.8519(5),b=10.7191(8),c=18.5942(14)A,V=1365.67(18) A3,Z=4,Dc=1.354 mg/m3.F(000)=592,μ=0.101 mm-1 相似文献
3.
设计并镀制了193nm Al2O3/MgF2反射膜,对它们在空气中分别进行了250-400℃的高温退火,测量了样品的透射率光谱曲线和绝对反射率光谱曲线.发现样品在高反射区的总的光学损耗随退火温度的升高而下降,而后趋于饱和.采用总积分散射的方法对样品在不同退火温度下的散射损耗进行了分析,发现随着退火温度的升高散射损耗有所增加.因此,总的光学损耗的下降是由于吸收损耗而不是散射损耗起主导作用.对Al2O3材料的单层膜进行了同等条件的退火处理,由它们光学性能的变化推导出它们的折射率和消光系数的变化,从而解释了相应的多层膜光学性能变化的原因.反射膜的反射率在优化联系、镀膜工艺与退火工艺的基础上达98%以上. 相似文献
4.
5.
6.
THE LARGE TIME BEHAVIOR OF SPECTRAL APPROXIMATION FOR A CLASS OF PSEUDOPARABOLIC VISCOUS DIFFUSION EQUATION 总被引:1,自引:0,他引:1
尚亚东 《数学物理学报(B辑英文版)》2007,27(1):153-168
The asymptotic behavior of the solutions to a class of pseudoparabolic viscous diffusion equation with periodic initial condition is studied by using the spectral method. The semidiscrete Fourier approximate solution of the problem is constructed and the error estiation between spectral approximate solution and exact solution on large time is also obtained. The existence of the approximate attractor AN and the upper semicontinuity d(AN,A)→0 are proved. 相似文献
7.
8.
PET-HBT嵌段热致性液晶共聚酯的合成 总被引:1,自引:0,他引:1
液晶高分子材料具有相当高的强度和模量,被誉为当代超级工程塑料.以对羟基苯甲酸甲酯、1,4-丁二醇为主要原料,经熔融酯交换合成双-对羟基苯甲酸丁二醇酯(BBHB);以四氯乙烷为溶剂,采用溶液缩聚法将过量的BBHB与对苯二甲酰氯(TPC)合成端基为BBHB的齐聚物(PHBT);以对苯二甲酸二甲酯与乙二醇为原料,经熔融酯交换合成对苯二甲酸双β-羟乙酯(BHET),然后采用溶液缩聚法将BHET与少量的TPC合成端基为TPC的齐聚物(PTET);最后以PHBT与PTET为原料,以四氯乙烷为溶剂,采用溶液缩聚法合成目标共聚酯(PET-HBT)。研究了共聚酯的双折射现象及热行为;用偏光显微镜观察了试共聚酯的织态结构并用FTIR表征了共聚酯的微观结构. 相似文献
9.
Y2O3质点对β—NiAl涂层抗氧化性能的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
本文用复合电沉积及粉末包装扩散渗铝技术获得了含Y_2O_3、质点的β-NiAl型新涂层,并研究了Y_2O_3、质点及其含量对涂层1100℃的氧化性能的影响。实验证明,Y_2O_3质点的加入有效地降低了涂层的氧化速率,提高了氧化膜的抗剥落能力。实验范围内的Y_2O_3含量对涂层氧化速率的影响并不明显,但通过改变涂层/氧化膜界面处氧化膜的形态可以对氧化膜的粘附性产生影响。向涂层内突出生长的针状氧化膜具有更显著的钉扎作用。复合电沉积层中弥散分布的Y_2O_3质点在渗铝过程中部分产生聚集,在制备出的复合铝化物涂层的基体/涂层界面附近形成了明显的Y_2O_3聚集层,在氧化过程中有效地抑制了涂层的退化。 相似文献
10.
研究了醇钠存在下取代苯胺与氯甲基硅烷在二甲基甲酰胺中的反应,的产和的经元素分析、IR和H NMR光谱鉴定为N-硅甲基-N-甲酰基苯胺衍生物。 相似文献