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为获得高质量纯铅表面,采用化学机械抛光(CMP)的方法并辅以自制抛光液,研究了胶体二氧化硅抛光颗粒的形状、粒径和浓度、加载压力、抛光头与抛光盘转向和转速、抛光液流量等工艺参数对铅片表面材料去除率和粗糙度的影响.研究表明:小粒径异形(眉形)胶体二氧化硅抛光颗粒相较于大粒径球形颗粒更有利于铅片抛光,抛光颗粒的粒径和浓度对纯铅抛光性能的影响主要取决于铅片表面与胶体二氧化硅颗粒以及抛光垫表面丝绒的耦合作用关系.随着加载压力、抛光头与抛光盘转向和转速、抛光液流量的改变,铅片表面和抛光垫之间驻留的层间抛光液的厚度以及状态发生改变,从而直接影响抛光液的流动性、润滑性和分散性,以及影响抛光颗粒和化学试剂与铅片表面的机械化学作用,进而影响抛光质量和材料去除率.通过对工艺参数影响的研究和对工艺参数的优化,最终获得了表面粗糙度Ra为1.5 nm的较为理想的超光滑纯铅表面,同时材料去除率能够达到适中的380?/min. 相似文献
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用宫颈癌细胞Hela表面高表达G250抗原的单克隆抗体G250修饰非病毒基因载体, 获得肿瘤靶向基因载体. 通过注射G250杂交瘤细胞于小鼠腹腔, 制备富含G250mAb的腹水, 用正辛酸-硫酸铵沉淀法和Protein A Agarose分离纯化, 获得高纯度的G250mAb. 通过二硫键将PEI与G250mAb偶联, 得到修饰的基因载体G250mAb-PEI, 研究其转基因靶向性. 结果表明, G250mAb-PEI对Hela细胞的基因转染具有显著的靶向性, 对Hela细胞的转基因效率是肝癌细胞HepG2(G250阴性)的2倍; 而对正常血管平滑肌细胞(SMC)的基因转染效率比Hela低近20倍, G250mAb修饰与否对SMC没有靶向性; 对3T3细胞的毒性显著低于未修饰的PEI, 表明G250mAb-PEI是一种高效、低毒和具有靶向性的基因载体. 相似文献
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采用销-盘摩擦副接触方式在混合及流体动力润滑下,对不同密度的规则微小凹痕图型表而进行石蜡油润滑下的摩擦试验,利用Stribeck曲线分析在不同试验条件下,不同密度的规则微小凹痕图型表面的摩擦特性,利用摩擦系数曲线图解析不同载荷和滑动速度下,不同密度的规则微小凹痕图型表面的摩擦行为.结果表明,当试样表面具有规则微小凹痕图型时,其减摩效果较无微小凹痕图型表而更佳,在不同载荷作用下,规则微小凹痕图型存在着最佳的密度分布,即在载荷为5~30N,规则微小凹痕图型密度为32.4%时的减摩效果最佳. 相似文献
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