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采用Tb4O7作为扩散源对N50磁体进行晶界扩散处理,平行于取向的面扩散后磁体的Hcj增加了8.83 kOe,达到22.74 kOe,垂直于取向的面扩散后磁体的Hcj增加了8.86 kOe,达到22.77 kOe。通过对磁体的不同位置的Hcj进行分析,在距表层500~750μm处获得最大Hcj为26.77kOe。对磁体的Tb,Nd和O元素的分布进行分析,发现在表层有较高的O富集,进一步分析发现磁体中的O含量对磁体的微观结构,磁体性能和热稳定性产生了影响,得出控制磁体的O含量是取得晶界扩散良好效果的关键因素。  相似文献   
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