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氮化硅陶瓷层裂强度的研究   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
 用一级轻气炮冲击加载装置,对氮化硅陶瓷进行了冲击性能实验研究。发展了一种新的方法用于研究层裂特性,即通过在样品中埋设电磁粒子速度计来记录氮化硅陶瓷内部的层裂特性。该方法不同于常用的VISAR激光干涉法和锰铜计法,记录的是样品内部粒子速度的变化特征,位于层裂面后方的粒子速度计能清晰地表征材料的层裂特性。通过实验,得到了密度为3.12 g/cm3的氮化硅陶瓷的层裂强度为0.73 GPa,和Nahme等得到的强度较为接近,对称碰撞得到的裂片厚度与该次实验的飞片厚度相当。实验表明,电磁粒子速度计的方法可以用于研究非磁屏蔽材料的层裂特性。由于采用多个计进行记录,还得到了材料在弹性区内(1.8~3.6 GPa)的Hugoniot冲击绝热线。  相似文献   
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激光扫描共聚焦显微镜(LSCM)具有高分辨率和高光学切片的成像能力,是生命科学研究不可或缺的工具.通常采用的XY或者XYZ扫描方式成像速度慢,限制了生物研究中快速现象的追踪.本文介绍了实时快速成像的XT线扫描模式,并建立线扫描方向的识别方法.制作荧光小球样本,经过荧光小球划出不同方向的线段,使线段的一端接近荧光小球的中...  相似文献   
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