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1.
合成一系列取代二芳基硝酮XArCH=N(O)ArY化合物,测定其核磁共振氢谱(1H NMR),指认出桥基CH=N(O)上质子的化学位移δH[CH=N(O)],定量研究取代基效应对δH[CH=N(O)]的影响.得到一个4参数定量方程,标准偏差(S)为0.020,较好地表达了δH[CH=N(O)]的变化规律.结果表明,该类化合物的δH[CH=N(O)]主要受4个因素影响:X基团的场/诱导效应[σF(X)];Y基团的共轭效应[σR(X)];基团X和Y之间的特殊交叉作用(Δσ2);以及基团X和O-之间的特殊交叉作用[Δσ2(X-O-].其中,Δσ2(X-O-对δH[CH=N(O)]变化的贡献超过70%.通过δH[CH=N(O)]与二芳基希夫碱XArCH=NArY桥基CH=N上质子化学位移的δH(CH=N)比较发现,这两类化合物桥基上质子的化学位移之间没有良好的线性关系.因而,在应用NMR谱图解析有机化合物分子结构时,不能简单地用δH(CH=N)的变化去类比δH[CH=N(O)]的变化.  相似文献   
2.
合成了36种二取代二苯基硝酮XArCH=N(O)ArY (简称XPNY)化合物,研究了取代基效应对其还原电位(Ered)的影响,并系统对比了XPNY与XArCH=NArY (简称XBAY)和XArC(Me)=NArY (简称XPEAY)还原电位的差异。研究结果表明:XPNY的Ered与C=N键的13C NMR化学位移δC(C=N)没有线性关系;XPNY、XBAY和XPEAY三类化合物的Ered之间没有线性关系,表现出不同的变化规律;X基团的激发态取代基效应和间位基团位置指示变量对化合物XPEAY和XBAY的Ered都有贡献,而对化合物XPNY的Ered贡献都很小,可忽略;Y基团的激发态取代基效应对化合物XPNY的Ered有一定贡献,而对化合物XPEAY和XBAY的Ered贡献很小,可忽略;XBAY和XPNY的母体有近似的还原电位,而XPEAY的母体其还原电位更低,一般而言,X-Y基团对相同时,XPEAY化合物更难被还原。  相似文献   
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