采用连续电位阶跃方法研究聚吡咯在电解质水溶液中的氧化还原稳定性

连续电位阶跃方法是一种研究氧化还原稳定性的有效方法. 本文采用连续电位阶跃方法研究了以对甲苯磺酸钠为掺杂剂的聚吡咯(ppy)膜的电化学氧化还原稳定性, 通过计算聚吡咯在阶跃电位下的还原电量(Q_red), 还原和氧化电量的比值(Q_red/Q_ox)考察聚吡咯在H₂SO₄、Na₂SO₄和NaOH溶液中在不同电位下的氧化还原可逆性. 结果发现聚吡咯过氧化的发生强烈依赖支持电解质的pH值和阶跃电位. 在H₂SO₄溶液中, 过氧化的起始电位为0.8 V, 而在Na₂SO₄溶液中, 过氧化的起始电位为0.5 V. 在NaOH溶液中, 过氧化在任何电位均可发生, 表明溶液中OH^- 的存在是过氧化发生的直接原因.     

聚吡咯对Cu(II)的催化还原作用

以对甲苯磺酸钠为掺杂剂在不锈钢(SS)电极表面恒电位合成聚吡咯(PPy)修饰膜, 采用恒电位和动电位对Cu(II)的还原效果进行了研究, 并与不锈钢电极进行了对比. 结果表明, 由于聚吡咯的催化作用, 聚吡咯修饰电极对Cu(II)还原效率高于不锈钢电极; 聚吡咯膜对析氢有明显的抑制作用, 因此电流效率远远高于不锈钢电极, 这是采用聚吡咯进行电化学还原的明显优势. 通过在不同浓度Cu(II)酸性溶液中的循环伏安行为讨论了聚吡咯对Cu(II)的还原作用机理.