含氟β-二酮类化合物在质子溶剂中光稳定机理的研究

本工作利用吸收光谱及核磁共振氢谱的方法对两种含-CF₃基的β-二酮类化合物在质子溶剂中引起分子内氢键的破坏,缩醛化的发生及其动力学等进行了研究。工作探讨了光照使缩醛化产物回复至原有的分子内氢键结构以及回复后体系在暗场下继续进行缩醛化的过程,虽然光照使缩醛化产物破坏的原因尚待进一步研究,但这类含有-CF₃基的β-二酮类化合物在光照条件下能回复到含有分子内氢键的体系,这一特性可使这类化合物用作一种能在质子溶剂中应用的光稳定剂。其光稳定能力在本工作中已被证实。