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采用简单浸渍的方法对BiVO4光阳极进行表面钨(W)掺杂,以环丙沙星(CIP)为药品和个人护理产品(PPCPs)模型污染物,研究了W掺杂BiVO4光阳极降解CIP的表面态行为。结果表明,低浓度W掺杂对BiVO4光阳极的晶体结构、表面形貌和光吸收性能没有显著影响。但W掺杂取代了BiVO4光阳极表面的V5+,能抑制BiVO4光阳极表面V5+/V4+还原过程,减少复合中心表面态,同时引入更多氧空穴,增加活性位点表面态。CIP的降解反应受表面活性位点控制。表面W掺杂能有效促进CIP降解的电荷转移,提高BiVO4光阳极光电催化降解性能。 相似文献
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采用简单浸渍的方法对BiVO4光阳极进行表面钨(W)掺杂,以环丙沙星(CIP)为药品和个人护理产品(PPCPs)模型污染物,研究了W掺杂BiVO4光阳极降解CIP的表面态行为。结果表明,低浓度W掺杂对BiVO4光阳极的晶体结构、表面形貌和光吸收性能没有显著影响。但W掺杂取代了BiVO4光阳极表面的V5+,能抑制BiVO4光阳极表面V5+/V4+还原过程,减少复合中心表面态,同时引入更多氧空穴,增加活性位点表面态。CIP的降解反应受表面活性位点控制。表面W掺杂能有效促进CIP降解的电荷转移,提高BiVO4光阳极光电催化降解性能。 相似文献
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