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在基底与靶材之间放置磁性强弱不同的永久磁铁来研究外加磁 场对磁控溅射制备氮化硅陷光薄膜的影响. 通过X射线衍射、原子力显微镜 (AFM) 以及紫外分光光度计分别测试了外加磁场前后所制备薄膜的组织结构、表面形貌和光学性能. 结果表明, 外加磁场后, 氮化硅薄膜依然呈现非晶结构; 但是表面形貌发生明显改变, 中心磁场1.50 T下, 薄膜表面为特殊锥状尖峰结构"类金字塔"的突起, 而且这些突起颗粒垂直于基底表面; 在 可见光及近红外范围内, 中心磁场1.50 T 下的薄膜样品平均透射率最大, 平均透射率达到90% 以上, 比未加磁场的样品提高了近1 倍, 具有很好的陷光特性.
关键词:
外加磁场
磁控溅射
氮化硅薄膜
陷光效应 相似文献
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广义非线性强度理论在岩石材料中的应用 总被引:8,自引:0,他引:8
在已提出的广义非线性强度理论的基础上,结合岩石材料的力学特性,建立了岩石广
义非线性强度理论,该理论在$\pi$平面上的破坏函数为介于SMP准则和Mises准则
之间的光滑曲线,在子午面上的破坏函数为幂函数曲线. 通过已有不同岩石的真三
轴试验数据对岩石广义非线性强度理论的验证表明,岩石广义非线性强度理论可以
广泛地适用于各类岩石,描述其$\pi$平面上及子午面上的非线性强度特性;并利
用5种不同类型岩石的真三轴试验结果对岩石广义非线性强度理论和Hoek-Brown准
则进行比较,反映了所提岩石广义非线性强度理论的优越性. 相似文献
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