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研究了三甲基硅丙炔(TMSP) 和五甲基二硅丙炔(PMDSP) 的共聚物膜对O_2、N_2气体的透过行为。发现 TMSP-PMDSP共聚物膜对O_2、N_2气体的透过活化能为负值,透过系数随温度升高而下降;受热历程不同,气体在膜中的透过行为也不相同。膜两侧气体压差不同时,气体在膜中的透过系数亦发生变化。用氟化物HFBM对共聚物膜表面进行了化学改性,改性膜的P_(O_2)/PN_2值达到3.52。 相似文献
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等离子体聚合过程就是薄膜形成过程,薄膜直接沉积在底膜表面,等离子体聚合产物通常是交联的,热稳定性好,耐有机溶剂。在等离 相似文献
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