多甲川键菁染料光氧化机理研究

本文利用紫外-可见吸收光谱法、顺磁共振(ESR)法系统地研究了多甲川键菁染料光氧化反应机理,结果表明,单线态氧(¹O₂)、超氧阴离子(O₂^-·是导致染料光褪色的主要因素,而在没有氧气存在下,Dye^-·也促使染料光褪色。     

感半导体激光菁染料稳定性的研究

菁染料因其具有容易合成、价格便宜、光学特性好等优点,在感光胶片中已大量应用,在有机光盘中也越来越受到人们的重视。但是,由于长链的菁染料在光照下极易发生光氧化还原反应,稳定性较差,因此研究和解决菁染料的光稳定性对其在激光照排材料和有机光盘中的应用都具有非常重要的意义。