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基于电感耦合等离子体发射光谱(ICP-OES)法研究了无机锗和有机锗在HCl介质中的氯化物发生情况.结果表明,有机锗(Ge-132)不形成氯化物,而无机锗在以浓 HCl为载流,载气压力0.14 MPa,样品溶液中HCl浓度为6 mol/L时能实现最佳的氯化物发生效率,由此建立了含锗保健品提取液中无机锗的选择性测定新方法...  相似文献   
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