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1.
含羧基的席夫碱型聚硅氧烷液晶的合成及其液晶性能
张立眉
高建峰
张立成
王赫
《合成化学》
2016,24(6):507-509
对羟基苯甲醛与对胺基苯甲酸缩合制得刚性基元(1);3-溴丙烯与对羟基苯甲酸经取代反应制得对烯丙氧基苯甲酸(2); 2经加成和酰氯化后,与1经酯化反应合成了含羧基的席夫碱型聚硅氧烷液晶(5),其结构经IR确证。对5的液晶性能进行了测试。结果表明:5属于近晶型条带织构; 5具有较高的熔点和清亮点温度,液晶区间在180.34~251.11 ℃。
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