钒氧酞菁多晶薄膜的稳态光电压特性研究

报道了Ａｌ／ＶＯＰｃ／ＩＴＯ夹心结构在稳态连续光照射下的光电压作用谱，稳态光电压作用谱不仅依赖于照射光的波长，而且依赖于ＶＯＰｃ（钒氧酞菁）多晶薄膜的堆积方式，对ＶＯＰｃ在相１，相１１，及α型三种堆积方式的稳态电压波长响应进行了研究，并对其内在机制作了初步探讨。     

钒氧酞菁的合成及其薄膜结构与光电性能的研究

自从60年前^[1]金属酞菁被发现以来,就引起人们的广泛兴趣,其原因主要在于它们在染料颜料、光化学、催化、和成像中的应用. 和许多其它酞菁衍生物一样,钒氧酞菁具有光导和半导体特性,这使得它在光电子学、电子成像、化学传感器、甚至于微电子器件中有潜在的十分光明的应用前景^[2]. 例如, 钒氧酞菁在电子成像体系中已成为有用的感光材料. 近年来,金属酞菁等有机材料的结晶薄膜开始不断地吸引人们的注意力. 人们考察了不同的金属酞菁如: 酞菁铜、酞菁铅、酞菁镍、和酞菁锡 等的光电导和光电压^[3]. 通常酞菁以几种不同的多晶异构体、即以不同的晶体排列结构方式存在. 因此,其光电特性不仅取决于分子中心的金属原子、而且取决于它们的晶体结构. 总之,值得我们研究钒氧酞菁薄膜的光电特性以及它与吸收光谱和薄膜晶体结构的关系.