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杂多阴离子在质子介质中的电还原行为已有大量报道“,“,已经证明杂多阴离子在还原后有质子化的过程发生,然而仅能从理论上推断质子化发生在桥氧上,尽管中子衍射可确定结晶中的质子位置,但是该方法太复杂,并且无法在溶液中进行现场研究．本文以现场FTIR光谱电化学方法对杂多阴离子PMO;刀X在质子介质中的电还原行为进行了研究,给出了杂多蓝质子化发生在桥氧上的新证据．考虑到红外光谱电化学方法中使用NaCI盐窗的要求和水溶液的强吸收等问题,我们选用经高氯酸酸化的乙脂溶液作为研究体系．1实验部分按文献［’1方法制备TBAsP… 相似文献
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