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一、硅烷法的优越性高純硅是主要的半导体材料之一。它的提純要比锗困难得多。成功地用于提純锗的区域熔炼,应用于硅上有很大的缺陷。虽然发展起了无坩堝区域熔炼和湿氢去硼技术,迄今仍侧重于化学提純。发展起来了一批化学提純方法。其中許多已用于工业規模或半工业規模生产中。四氯化硅的鋅还原和氢还原、碘化硅的氢还原和热分解以及三氯硅烷的氢还原等方法大多是高温还原过程。产品純度不仅受原料純度的限制,还要受还原剂純度以及从設备結构材料而来的沾污的限制。
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