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MoO3在Al2O3薄膜表面扩散的研究 总被引:3,自引:0,他引:3
氧化物和盐类在高比表面载体上的单层分散现象已被大量实验所证实[1].MoO_3在γ-Al_2O_3等高比表面载体上的分散已经研究很多,近来的研究证实MoO3等在α-Al2O3等小比表面载体上也能自发单层分散[2],但是分散的过程仍然缺乏直接的观察研究.本工作通过多种表面分析方法首次研究了MoO3在平整无定形的Al2O3薄膜上的扩散过程以及影响因素.发现除温度升高外、水汽的存在对该扩散过程也有促进作用.1实验部分1.1样品的制备采用SS-3200真空磁控溅射镀膜机,通入Ar-O2作为反应气,直流磁控… 相似文献
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