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201.
非稳态闪光法测量不良导体热导率光电系统的改进   总被引:1,自引:0,他引:1  
王昆林  刘子臣  高立模  朱箭 《物理实验》2002,22(6):37-38,48
利用电子闪光灯代替高压脉冲电源及氙灯,对非稳态闪光法测量不良导体热导率仪器的光电系统做了改进,减小了电磁辐射干扰。  相似文献   
202.
We present the results for thermal expansion coefficients of Sn2P2S6 crystals determined both in the crystallographic system and the system based on eigenvectors of thermal expansion tensor. Peculiarities of temperature evolution of the indicative surface of thermal expansion tensor for Sn2P2S6 are discussed, including the region of their ferroelectric phase transition.  相似文献   
203.
The glass formation in the SiO2-rich region of the ternary oxide system Al2O3–ZrO2–SiO2 with MgO, CaO, and TiO2 as melting aids was analyzed. The crystallization of glasses with different content of TiO2 and phase evolution with the temperature was studied by X-ray diffraction, infrared, laser Raman spectroscopy and transmission electron microscopy. The use of TiO2 favored formation and crystallization of the glasses due to the decrease of the viscosity of melts and acting as a nucleating agent. The crystalline phase of t-ZrO2 was developed at temperatures as low as 880°C whereas in as prepared specimens without TiO2 its presence was not detected. For the specimens with TiO2, t-ZrO2 and mullite were the principal phases at 1000°C. TiO2 addition did not change the crystallization sequence but decreased the formation temperature of the crystalline phases. Most of Ti4+ ions entered into t-ZrO2 and only a small portion in mullite, but the surplus was detected in ZrTiO4.  相似文献   
204.
给出了3ω法测试系统中描述薄膜表面加热/测温膜中温度波动的级数形式解,并将复数温度波动的实部和虚部分开表示.利用该解分析了交流加热频率、加热膜宽度和材料热物性的组合参数对加热膜温度波动幅度的影响.并根据此解对测量原理的数学模型进行了修正,建立了相应的3ω测试系统,首先测定了厚度为500 nm SiO2薄膜的导热系数,验证了实验系统的合理性.加大了测试频率,利用级数模型在高频段直接得到SiO2薄膜的导热系数,结合低频段的数据同时确定了Si基体的导热系数.利用级数解分析测试了激光晶体Nd:YAG〈111〉面上多层ZrO2/SiO2增透膜的导热系数,测试的ZrO2薄膜的导热系数比体材料小.进行了不确定度分析.结果表明,提出的分析方法可以有效研究微器件表面薄膜结构的导热性能. 关键词: ω法')" href="#">3ω法 微/纳米薄膜 导热系数 微尺度加热膜  相似文献   
205.
本文提出一种利用神经元电响应频率定量评价人体热舒适性的理论方法和准则。利用Hodgkin-Huxley方程和Pennes生物传热方程描述皮下神经元在瞬态温度场下的电响应特性,并研究了环境温度、对流换热系数,血液灌注率和组织导热率等参数对它的影响,结果表明神经元动作电位频率在等效温度发生0.1℃时就会发生明显变化,可以组合多个环境和热物性参数评价人体热舒适性。  相似文献   
206.
The structures and thermal expansion properties of Lu2-xFexMo3O12 have been investigated by X-ray diffraction(XRD).XRD patterns at room temperature indicate that compounds Lu2-xFexMo3O12 with x≤1.3 exhibit an orthorhombic structure with space group Pnca;compounds with x=1.5 and 1.7 have a monoclinic structure with space group P21/a.Studies on thermal expansion properties show that the linear thermal expansion coefficients of orthorhombic phase vary from negative to positive with increasing Fe content.Attempts to make zero thermal expansion materials indicate that zero thermal expansion can be observed in Lu1.3Fe0.7Mo3O12 in the temperature range of 200-400℃.  相似文献   
207.
皮德富  马晖 《应用光学》1996,17(5):45-47
本文介绍一种高温超导热图像信号采集和处理系统,采用在PC机中插入采集板的硬件结构和C语言与汇编语言混合编程的软件设计方法,实现了对高温超导热图像信号的采集和图像处理,图像管理,图像显示等多种功能。  相似文献   
208.
连续CO2激光对红外窗口材料损伤研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
龚辉  李成富 《光学学报》1996,16(3):32-335
研究了连续CO2激光对几种红外窗口材料的表面损伤特性,研究表明,损伤机制在于杂质缺陷吸收造成的热冲击应力破坏。深入研究了杂质缺陷密度、焦斑与材料损伤阈值的关系,并建立了一个损伤模型。同时分析了热冲击应力破坏方式。  相似文献   
209.
210.
22nm极紫外光刻物镜热和结构变形及其对成像性能影响   总被引:1,自引:0,他引:1  
杨光华  李艳秋 《光学学报》2012,32(3):322005-230
极紫外光刻技术(EUVL)是半导体制造实现22nm及其以下节点的下一代光刻技术。在曝光过程中,EUVL物镜的每一面反射镜吸收35%~40%的入射极紫外(EUV)能量,使反射镜发生热和结构变形,影响投影物镜系统的成像性能。基于数值孔径为0.3,满足22nm技术节点的产业化EUV投影物镜,采用有限元分析(FEA)的方法研究反射镜变形分布,再将变形导入光学设计软件CODE V中,研究反射镜变形其对成像特性的影响。研究结果表明:当达到硅片的EUV能量为321mW,产量为每小时100片时,反射镜最高升温9.77℃,通光孔径内的最大变形为5.89nm;若采用相干因子0.5的部分相干光照明,变形对22nm线宽产生6.956nm的畸变和3.414%的线宽误差。  相似文献   
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