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41.
In relation to a colloid stability, the adsorption structure of the Stern layer on a sessile mercury electrode in a thin liquid film of nonionic surfactant was investigated by measuring the double layer capacitance. The Stern capacitance on the electrode in the film could be detected when the measuring frequency used was low, for the resistance of the film was not extremely high but of the order of several thousand ohm. It was found that the adsorption structure of nonionic surfactant in the thin liquid film shows a stratification different from that of bulk. 相似文献
42.
ZIF-8是一种Zn基金属有机骨架材料, 可以吸附丙酮气体从而作为电容式丙酮传感器的气敏材料, 然而ZIF-8的传统使用形式为粉末态, 这导致其不能成为具备柔性的整体, 从而限制了传感器的柔性. 结合包埋种子和二次生长法将ZIF-8与纳米纤维结合成纤维型柔性材料, 并将其作为气敏层制备了柔性电容式丙酮气体传感器. 该传感器在9种常见挥发性有机化合物中表现出良好的选择性, 对250~2000 cm3/m3的丙酮气体具有灵敏的响应、良好的循环响应及长期稳定性. 值得注意的是该柔性传感器不仅在室温下进行传感, 而且在弯折180°的状态下对丙酮气体的响应值与不弯折(0°)状态下几乎一致, 在200次以内的180°弯折-恢复后同样表现出了传感性能的稳定, 表明了其在柔性传感器方面的潜力. 相似文献
43.
44.
采用溶剂热法成功制备了纳米CuFe2O4-rGO复合材料。通过X射线衍射(XRD),扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和电化学工作站对样品的结构、形貌及电容特性进行表征。结果表明,CuFe2O4纳米粒子均匀地分散在石墨烯片层间,其中CuFe2O4-20% rGO复合材料具有最优的电化学性能,当电流密度1 A·g-1时,其比电容为1 952.5 F·g-1,当电流密度为1 A·g-1时,CuFe2O4-20% rGO复合材料经1 000次充放电后的比电容保持率为86.17%。 相似文献
45.
46.
In the Ir(210)/aqueous HCl solution system the “hydrogen adsorption region” is due to the combined process of hydrogen and
chloride ion adsorption. We demonstrate that by using impedance spectroscopy the rates of, and charges associated with, hydrogen
and chloride adsorption rates can be determined separately.
Published in Elektrokhimiya in Russian, 2009, Vol. 45, No. 1, pp. 32–41.
Dedicated to the 100th anniversary of B.V. Ershler.
The text was submitted by authors in English. 相似文献
47.
48.
Interface states in Al_2O_3/AlGaN/GaN metal-oxide-semiconductor structure by frequency dependent conductance technique
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Frequency dependent conductance measurements are implemented to investigate the interface states in Al2O3/AlGaN/GaN metal-oxide-semiconductor(MOS) structures. Two types of device structures, namely, the recessed gate structure(RGS) and the normal gate structure(NGS), are studied in the experiment. Interface trap parameters including trap density Dit, trap time constant τit, and trap state energy ETin both devices have been determined. Furthermore,the obtained results demonstrate that the gate recess process can induce extra traps with shallower energy levels at the Al2O3/AlGaN interface due to the damage on the surface of the AlGaN barrier layer resulting from reactive ion etching(RIE). 相似文献
49.
由聚苯胺捆绑二氧化锰纳米束作为超级电容器的电极材料,具有良好的赝电容特性。聚苯胺良好的导电性影响二氧化锰纳米束的电化学性能,使其阻抗变小,稳定性增强。 相似文献
50.