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Palladium and palladium–copper films, prepared by electroless deposition on ceramic supports, and commercial foils were exposed to air, hydrogen and helium at 500 and 900 °C for times varying from 1 h to 1 week with the objective of determining the effect of the different exposure conditions on the surface morphology, the flux of different penetrants and the crystalline structure of the materials. Atomic force microscopy (AFM) and X-ray diffraction (XRD) were used to study the changes occurring in the films under those conditions.
It was observed that the exposure of both the electroless films and the foils to hydrogen and air markedly modified their surface morphology. The hydrogen exposure tended to smooth the surface features whereas the oxygen exposure created new surface features such holes and large peaks. Additionally it was found that the air exposure produced some oxidation of the film to create PdO.
These results suggested that a common hypothesis stating that air oxidation just cleans the surface of the membrane might not be sufficient to explain all of those changes. A contributing effect of air exposure may be the increase in surface area due to the formation of palladium oxide. However, the extent of the surface area increase was insufficient to explain the increase in steady-state H2 flux. 相似文献