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31.
32.
祁明 《陕西师范大学学报(自然科学版)》1992,(2)
在 K-饱和的非标准模型中,研究了泛 Loeb 可测集 m(A),pns(~*X),cpt(~*X),fin(~*X),ns(~*X)的 S-饱和性.当 A 是紧致 Hausdorff 空间 X 的子集时,得到了 st~(-1)(A)是标准集的充分条件. 相似文献
33.
高智民 《纯粹数学与应用数学》1994,10(2):1-5
本文证明了:若X是K-半分层空间,f是闭映射,则f(X)是K-半分层空间,这一结果推广改进了Lutzer与高国士的有关结果。 相似文献
34.
该文给出了帐篷映射产生的迭代序列Cesaro平均收敛的条件.研究了它与实数二进展式度量性质之间的联系. 相似文献
35.
36.
一类带限制集值型投入产出方程的存在性定理 总被引:2,自引:0,他引:2
刘颖范 《南京大学学报(自然科学版)》2005,22(1):36-46
引入了一类带限制的集值型投入产出方程.通过利用某些非线性分析方法,得到了一些存在及连续相依性结果. 相似文献
37.
38.
Myung-Soon Lee 《Applied Surface Science》2006,252(14):5019-5025
We prepared high quality Au(1 1 1) film on Si wafer through the spin coating and thermal decomposition of a gold ink, spin-coated-and-fired (SCAF) Au film. The X-ray measurements, XRD and pole-figure analysis, showed that the SCAF Au film has a (1 1 1) out-of-plane orientation with a random in-plane orientation. In order to confirm the chemical activity of the SCAF Au film, we demonstrate the formation of patterned structures with the film by using soft lithography technique. The chemical activities of this physically stable SCAF Au film to the alkanethiols were at least equivalent those of physically deposited the Au films. The possibility of the mass production of micro patterned structure with the SCAF Au film was also demonstrated over the wide region on Si wafer by the microcontact lithography. These suggest that the Au film will help the easy fabrication of various nanosized devices on Si wafer and other substrates. 相似文献
39.
Summary In this note we use Theorem 2.4 in<span lang=EN-US style='font-size:10.0pt;mso-ansi-language:EN-US'>[1]to give a very short
proof of a recent result due to M. Bognár (Theorem A in [3]). We also prove that Bognár's result is in fact equivalent to
the classical Hahn-Mazurkiewicz Theorem. Finally we give generalizations in the non-compact setting. 相似文献
40.
A. Ulyanenkov 《Applied Surface Science》2006,253(1):106-111
Several novel methods for evaluation and interpretation of X-ray data from modern nanostructures are presented along with their applications. The background of methods and their relations to fundamental problems of X-ray analysis is shortly described. The key features of LEPTOS software, which is designed for the analysis of X-ray data measured with various geometries and setups and implements all discussed techniques, are discussed. 相似文献