Preparation of polymers with substituted allyl end group using dimer of α-methylvinyl monomer as addition fragmentation chain transfer agent at high temperatures

The dimerization of methyl methacrylate, ethyl methacrylate, methacrylonitrile, and α-methylstyrene to 2-substituted-1-allylic compounds [CH₂?C(X)CH₂C(CH₃)₂X] (X = COOR, C₆H₅, or CN), and methyl α-ethylacrylate to a 3-substituted-2-allylic compound [CH₃CH?C(COOCH₃)CH₂C(CH₃)(C₂H₅) COOCH₃] was carried out by catalytic chain transfer using benzylbis (dimethylglyoximato) (pyridine) cobalt (III). These dimers were then used as addition-fragmentation chain transfer agents in the polymerizations of methyl methacrylate and styrene at 80⁰C or above. Cross-dimers from methacrylic ester-α-methylstyrene and methacrylonitrile-α-methylstyrene mixtures were similarly prepared. Except for those from methyl α-ethylacrylate and methacrylonitrile, all the dimers participated in the addition-fragmentation and the copolymerization to different extents. The dimer of methyl α-ethylacrylate was actually inactive during the styrene and methyl methacrylate polymerizations. The methacrylonitrile dimer was primarily incorporated in the polymer chain through copolymerization. Among the dimer and the cross-dimers from α-methylstyrene with the other monomers, those bearing the α-methylstyrene moiety in the α-substituent [CH₂?C(X)CH₂C(CH₃)₂C₆H₅, X?COOCH₃, COOC₂H₅, and CN] are noted as highly reactive chain transfer agents. © 1994 John Wiley & Sons, Inc.     

ATMP(氨基三甲叉膦酸)及其顺磁性Co(Ⅱ)配合物的核磁共振研究

本文用¹H、³¹P和¹³C核磁共振谱研究了ATMP(氨基三甲叉膦酸,以简式H₆L表示)及其顺磁性Co(Ⅱ)配合物。测定了不同C_co/C_ATMP摩尔比在不同pH值下的各向同性位移。定性地讨论顺磁性Co(Ⅱ)配合物在不同pH条件下的组成、电荷和空间构型变化对化学位移的影响。运用快速交换反应中化学位移与配合物浓度的关系,确定不同pH下的条件稳定常数。     

Co修饰活性炭作为超级电容器的电极材料

为提高碳电容器的容量,采用Co2 真空浸渍、碱化处理的方法对活性炭电极进行了修饰.采用循环伏安、恒流充放电、寿命试验及漏电流测量等方法对Co修饰后的电极及电容器的性能进行了测试,结果表明,Co修饰后的活性炭电极的比容量比未修饰的活性炭电极提高26.8%,组成电容器后经1000次循环,电容量仍保持在91%以上,且该电容器漏电流较小.     

Co2+: CaAl2S4吸收光谱的理论解释

MgAl2Sd，CaAl2S4，CO^2 MgAl2S4和Co^2 CaAl2S4晶体是典型的三重复合半导体材料，由化学输运反应的方法可以成功制备而得出，具有宽的能隙结构，因而在光电方面有着非常重要的应用而备受广泛的关注．采用Sugano-Tallabe强场近似理论，引入平均共价因子Ⅳ，利用经典晶场能量矩阵公式，在D2对称模型下计算出的结果较好符合了实验事实，从而纠正了S．K．Oh等人对Co^2 ：CaAl2S4吸收光谱的不合理解释。     

在Co2+注入修饰电极上米托蒽醌的电化学行为及其应用

米托蒽醌(MX)在0.005mol*L-1 Tris-0.05mol*L-1 NaCl (pH7.1)缓冲溶液中, 在Co离子注入玻碳修饰电极(Co/GCE)上,有一灵敏的伏安还原峰,峰电位为-0.68V,峰电流与MX的浓度在1.8×10-7～9.0×10-6 mol*L-1 间呈线性关系,检出限为9.0×10-8 mol*L-1.将该法用于病人尿样的测定,回收率为94.6%～105.7%. 用线性扫描和循环伏安法研究该体系的电化学行为和电催化.实验表明,体系为不可逆过程.Co/GCE上的电流比GC电极的大,扫速对催化效率的影响实验证明,存在着催化作用.X射线光电子能谱(XPS)和俄歇电子能谱(AES)实验表明,Co确实被注入在GC表面,注入的Co催化了MX的还原.     

一类钴基化合物的分子场理论分析

根据两格点分子场理论，在考虑重稀土与钴的磁矩偏离反平行倾角的基础上，分析了钴基化合物RCo5(R=Y，Pr，Nd，Gd，Tb，Dy)的磁化与温度的关系，采用数值拟合的方法得到了描述3种磁作用的分子场系数n(CoCo)，n(RCo)和n(RR)，计算出了Tc，结果表明，RCo5中的磁作用主要由钴3d电子问的交换所决定。     

纳米结构陶瓷(n-WC/12Co)涂层材料精密磨削的试验研究

对纳米结构陶瓷(n—WC／12Co)涂层材料在金刚石砂轮精密磨削过程中的磨削力进行了较详细的试验研究，对常规结构陶瓷(c—WC／12Co)和n—WC／12Co涂层材料的磨削力作了对比磨削试验。分析了磨削工艺参数如砂轮磨削深度、工件进给速度、金刚石砂轮粘结剂类型和磨粒尺寸以及被磨试件材料特性等对磨削力的影响。结合被磨试件表面的扫描电镜(SEM)的观察，分析了n—WC／12Co涂层材料磨削的材料去除机理。     

WC—Co硬质合金的MEVVA源离子注入表面改性研究

采用了卢瑟福背散射，俄歇电子能谱和Ｘ射线衍射等现代表面分析技术，研究了Ｔａ离子米注入和Ｔａ＋Ｃ双注入的钴粘结碳化钨硬质合金表面的微化学和微结构变化。在此基础上，进行了进口和国产的ＷＣ－Ｃｏ刀具的Ｔａ注入和Ｔａ＋Ｃ双注入的表面改性研究，取得了明显的应用效果。     

配位萃取色谱法分离Co（Ⅱ）,Ni（Ⅱ）的研究

采用添加配位剂氨基乙酸于料液中，以取代传统的树脂转型方法．考察了淋洗ｐＨ值、进样量及料液Ｃｏ、Ｎｉ比等因素对分离的影响．在ｐＨ＝３．４０时５ｇ树脂可以将１６００μｇ的Ｃｏ、Ｎｉ比为１～１００的金属完全分离．并就氨基乙酸的配位、缓冲作用对分离过程的影响进行了初步研究     

多晶Co膜退火前后磁滞标度行为研究

研究了多晶Co薄膜制备态与退火态的磁滞回线与标度行为，结果表明：对易轴方向A∝A0＋H^（0.67-1.00）Ω^0.90，对难轴方向A∝A0＋H^（1.75-2.50）Ω^（1.45-0.95），与理论计算（α=0．95，β=0．28（Heisenberg模型））作比较，A与H的关系符合的较好，A与Ω的指数关系有些差异，这种差异还有待进一步研究。