用库仑-莫尔屈服准则对厚壁球的极限分析

用库仑－莫尔屈服准则对厚壁球进行了极限分析。该分析能够较好地反映出考虑材料的拉压屈服强度不同而对结构极限承载能力的影响。结果表明,厚壁球的极限承载能力随坟拉比Ｋ的增大而增大。本文导出的公式,对于理论研究和工程设计都具有参考价值。     

基于莫尔层析技术诊断三维温度场

阐述了莫尔层析技术,利用计算机的层析算法,对三维温度场进行了诊断研究,给出了实验结果并作了相应的讨论.     

基于Talbot-Moiré法测量透镜焦距的CCD亚像素标定技术

利用Ronchi光栅的Talbot效应和Moiré条纹测量长焦透镜焦距,根据焦距与莫尔条纹斜率之间的定量关系可求得透镜焦距.分别采用Canny算子和形态学方法对光栅的栅线中心进行像素级定位,再用高斯曲线拟合对其进行亚像素定位.经过对标准条纹的标定,验证了该方法的条纹中心定位误差小于0.1个像素.采用光栅作为系统的自基准对CCD像素当量进行了亚像素标定,为条纹斜率和宽度的计算提供了可靠的测量基准,经过计算,采用这些数据计算的焦距误差为0.10%.     

软X射线激光偏折法测量激光等离子体电子密度分布

利用脉宽约为50ps的类镍银139nm软X射线激光作为探针,探测由脉宽80ps的驱动激光打C8H8靶产生的等离子体在1ns后的电子密度分布信息,获得了清晰的莫尔条纹图像.对结果的处理,给出了峰值电子密度为11×1021cm-3,并对在靶面附近莫尔条纹的消失现象作了初步解释 关键词： 软X射线激光探针 莫尔条纹 等离子体电子密度     

基于Talbot-Moiré法测量透镜焦距的莫尔条纹的图像处理

利用Ronchi光栅的Talbot效应和Moiré条纹测量了长焦透镜焦距,并根据焦距与莫尔条纹斜率之间的定量关系可求得透镜焦距.为获得条纹斜率,用CCD采集莫尔条纹图像后,利用数学形态学滤波方法进行图像滤波平滑等预处理,有效地增强了图像的对比度.通过二值化、细化获得单像素宽连通的条纹,通过对条纹进行标记,为条纹斜率的直线拟合计算提供了可靠的数据,采用这些数据计算的焦距的误差为0.10%.     

相移阴影莫尔条纹正交化解调技术

提出一种基于克莱姆正则化分析法的三帧自标定相移阴影莫尔三维轮廓技术.该技术首先采用移动光栅的方法获得相移条纹图,然后通过不同帧相移条纹图相减去除条纹图背景,进而结合克莱姆正交化法和最小二乘法,发展了一种相位解调方法,提取了测量相位.以五步Harlharan算法为参考,用不同算法对同一物体表面进行测量.结果表明,相对于典型的三步相移法和主量分析方法,提出的方法测量得到的相位误差最小(0.5rad),且简化了测量过程.     

利用激光莫尔信号精密定位的复合控制研究

在分析利用激光干涉莫尔信号的精密定位方法的基础上,提出了精密定位的粗控、微控两段复合式控制方法,实现了装置宽范围控制的精密定位高业度及精密定位时间的缩短,对加快集成电路制造技术的进步有重要的参考价值。     

多层冷压印光刻中超高精度对正的研究

为满足多层冷压印光刻中套刻的超高精度要求,提出了基于斜纹结构光栅的对正技术.利用光电接收器件阵列组合接收光栅产生莫尔条纹的零级光,得到条纹平面内X、Y方向的对正误差信号.通过调整光栅副的间隙来提高误差信号的对比度.利用高对比度和灵敏度的误差信号作为控制系统的驱动信号,对承片台进行宏微两级驱动控制,并由激光干涉仪作为控制系统的反馈环节在驱动过程中进行全程监测,实现自动对正.最终使在X、Y方向上的重复对正精度达到了±20nm,满足了100nm特征尺寸压印光刻的对正精度要求.     

光栅莫尔条纹在机床数控改造中的应用研究

从机床数控改造的实际出发,针对我国目前国产机床加工精度普遍不高,数控化程度较低等问题,提出了一种全新的设计方案,利用光栅作为位置检测元件,形成全闭环控制系统,结果表明既能够大大提高零件的加工精度,又能节省改造成本,为机床数控改造提供了参考。     

正三角形结构三光纤莫尔干涉模型分析

三根保偏光纤以正三角形结构排列可实现莫尔干涉,在三光纤保偏轴相对位置任意的条件下,建立了纤端出射场的干涉模型,分析了莫尔干涉的光场分布.结果表明,干涉场光强分布与三根保偏光纤保偏轴方向的相对位置有关.