退火对钛/铜热等静压扩散连接界面的影响

钛/铜(Ti/Cu)作为ITER 第一壁Be/CuCrZr 热等静压连接中间过渡层,形成了多层中间金属相结构,容易在Ti/Cu 金属相之间产生裂纹等缺陷。采用CuCrZr 代替Be,经过与Be/CuCrZr 相同的热等静压工艺,制作了多个CuCrZr/Ti/Cu/CuCrZr 连接件,对Ti/Cu 连接接头进行深入分析。对连接件分别进行未退火、400℃和500℃ 退火处理,去应力退火后对接头强度和缺陷分布的影响进行了研究。研究结果表明,中间钛层的两侧都形成了三层Ti/Cu 扩散层,分别为Cu₄Ti、CuTi 和CuTi₂。纯铜侧的Cu₄Ti 厚度比CuCrZr 侧的厚,使得裂纹几乎全部分布于铜侧的Cu₄Ti 与CuTi 交界处,拉伸样品极易在此处发生脆性断裂。随着退火温度升高,裂纹的产生和扩展减少。     

基于非正交二元相位板的多焦点阵列光镊

提出了一种基于非正交二元相位板的阵列光镊系统,此系统可以实现对非正交排列的多个粒子的稳定捕获。通过对高数值孔径物镜在紧聚焦条件下的傅里叶变换理论和遗传算法来设计二元相位,优化得到具有不同分束比的,具有高衍射效率、高均匀度的归一化相位转折点,进而根据相位转折点设计出具有不同倾斜角度的非正交二元相位板。利用此二元相位板可以获得高数值孔径物镜聚焦下的各种非正交分布的阵列光斑。利用此类非正交阵列光斑,在光镊实验中实现了对二氧化硅微球的稳定捕获。理论模拟与实验结果表明,此方法可以实现对非正交排列的大量粒子的稳定捕获,在纳米粒子阵列的外延生长领域有着良好的应用前景。     

退火温度对纳米氧化铜湿敏性能的影响

湿度传感器在生产和生活中扮演着不容小觑的角色,越来越受到人们的广泛关注.本文利用低温液相法以氢氧化钠、过硫酸铵和铜粉为原料,成功制备出氧化铜纳米结构.运用扫描电子显微镜(SEM)、X-射线衍射仪(XRD)等技术对材料的结构与形貌进行表征,发现可以通过退火温度来调控氧化铜纳米结构的表面形貌,进一步比较研究了不同退火温度下制备的纳米氧化铜的湿敏性能.并将CuO纳米材料涂敷在电极表面制成了湿敏元件.研究结果表明,元件的湿敏特性明显与材料的退火温度密切相关,在500℃退火获得的氧化铜纳米线灵敏度最高,达到1.93×10~5;湿滞最小,几乎为零;感湿频率特性曲线的线性度好.分析认为这主要是由于,退火温度500℃时,氧化铜呈现纳米线状结构,具有更大的表面积,增加了与水分子的接触面积,进而具有更佳的湿敏特性.     

有源声呐距离维波束形成方法

针对脉冲压缩处理所获得的距离分辨率和干扰抑制能力不足的问题,提出了有源声呐距离维波束形成方法。该方法从单个脉冲回波的频域输出中提取多组子带分量,每个子带分量的中心频率形成等差数列,对应的相移形成复指数等比数列(可类比于均匀直线阵的阵列流形向量)。根据这一特点,使用多组子带分量构建协方差矩阵,根据中心频率设计距离维加权向量,建立了距离维波束形成模型。给出了距离维常规波束形成和距离维自适应波束形成的表达式、处理流程,对距离分辨率和干扰抑制能力进行了分析。利用数值仿真和水池实验证明,距离维常规波束形成可获得与脉冲压缩处理类似的距离分辨率,而距离维自适应波束形成可获得更高的距离分辨率和更优的距离维干扰抑制能力。     

应用于增量式光电编码器的相关自适应滤波方法

为了改善增量式光电编码器的莫尔条纹光电信号质量,降低主计数信号中高次谐频的影响,提高信噪比达到输出稳定的正弦波形,本文深入地研究了莫尔条纹光电信号中的高频信号和噪音信号产生的原因及其相关自适应滤除方法.从宏观和微观两个方案分析光栅副的屏函数,研究莫尔条纹光电信号输出波形的不确定原因,并且提出采用相关自适应滤波方法将高频信号滤除保留原有基频信号.从相关自适应滤波的数学模型论证和推导该相关自适应滤波过程并讨论其自适应性.指出在设计该自适应滤波电路时需要重视的几个关键指标及其影响效果,完成相关自适应滤波的有效性分析.相关自适应滤波效果等价于一个中心频率为基频的窄带带通滤波器,当基频随机变化时其通带也会随之改变.通过相关自适应滤波技术较好地滤除计数信号中除基频外所有高频分量和放大电路所引入的加性高斯白噪音.实验证明：莫尔条纹光电信号的失真度被降低8倍相关自适应滤波方法能使莫尔条纹光电输出波形趋近于标准正弦波,获得更高的信噪比.     

基于干涉仪测量的变形镜面形展平标定研究

为了全面地了解变形镜的性能,以便自适应光学系统更好地工作,进行了基于干涉仪测量的变形镜面形展平标定研究.首先,给变形镜的压电陶瓷驱动器施加一半的控制电压;再用Zygo干涉仪测得变形镜的面形,计算对应各个驱动器位置的镜面高度,并算得各个位置镜面高度相对平均镜面高度的偏差;最后,控制驱动器运动使偏差量为零.测试及实验表明,受压电陶瓷迟滞的影响,上述过程需要迭代4到6次镜面面形才会收敛到希望的准确度;对镜面周边无驱动器约束的21单元变形镜,展平之后其80%口径的面形接近λ/20(λ=632.8 nm);对镜面周边有驱动器约束的137单元变形镜,展平后的面形优于λ/50.在望远镜不同的观测条件下,该技术可以快速地对变形镜进行展平标定,以适应不同的工作环境.     

Two crucial factors influencing quality of GaAs on Ge substrate

High-quality GaAs films with fine surfaces and GaAs/Ge interfaces on Ge have been achieved via molecular beam epitaxy. The influence of low temperature annealing and low temperature epitaxy on the quality of the film when GaAs is grown on a （100） 6 ° offcut towards [111] Ge substrate are investigated by analyzing and comparing the GaAs films that are fabricated via three different processes. A low temperature annealing process after high temperature annealing and a low temperature epitaxy process after the initial GaAs growth play a vital role in improving the quality of GaAs film on a Ge substrate.     

Effect of alumina thickness on Al_2O_3/InP interface with post deposition annealing in oxygen ambient

In this paper, the effect of alumina thickness on Al2O3/InP interface with post deposition annealing （PDA） in the oxygen ambient is studied. Atomic layer deposited （ALD） Al2O3 films with four different thickness values （5 nm, 7 nm, 9 nm, 11 rim） are deposited on InP substrates. The capacitance-voltage （C-V） measurement shows a negative correlation between the alumina thickness and the frequency dispersion. The X-ray photoelectronspectroscopy （XPS） data present significant growth of indium-phosphorus oxide near the Al2O3/InP interface, which indicates serious oxidation of InP during the oxygen annealing. The hysteresis curve shows an optimum thickness of 7 nm after PDA in an oxygen ambient at 500 ℃ for 10 min. It is demonstrated that both sides of the interface are impacted by oxygen during post deposition annealing. It is suggested that the final state of the interface is of reduced positively charged defects on Al2O3 side and oxidized InP, which degrades the interface.     

人眼视网膜成像液晶自适应光学系统的优化设计

针对已有的人眼视网膜成像液晶自适应光学系统的不足,提出了新的优化设计方案.新设计的系统能对不同视度下的人眼进行高分辨率成像.新系统还采用了瞳孔监控装置和成像区域快速精确定位装置,并且采用了改进的消杂散光方法,能够使探测准确度和定位准确度得到保证.研究证明,该系统新的设计方案操作方便、灵活,便于推广使用.     

直接斜率法波前拟合和复原误差的仿真分析

报道了利用数值仿真方法对自适应光学系统补偿激光传输湍流效应中的波前拟合和复原误差的计算分析。计算结果表明，在利用波前斜率进行波前复原的实际自适应光学系统中，波前复原误差是利用波前最小方差法计算的波前拟合误差的１．２４倍。