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21.
微/纳结构表面3-D轮廓测量中倾斜误差的补偿方法 总被引:1,自引:0,他引:1
在对微/纳机电系统进行机械力学特性研究和可靠性测试时,经常需要获取结构的表面3.D轮廓.然而.使用显微干涉法测量微/纳结构的表面3-D轮廓通常会存在一定的倾斜误差,这种误差在某些应用中是不允许的.为了弥补传统的调平补偿方法的局限性,提出了一种基于最小二乘法和坐标变换的倾斜补偿方法:在处理图像时,先用最小二乘法确定一个基准平面,然后旋转直角坐标系使得新坐标系的xoy平面与基准平面平行即可达到调平被测表面而补偿倾斜误差的目的.通过具体应用实例证实了这种补偿方法是有用、灵活而精确的. 相似文献
22.
简要介绍膜分离技术,利用管式纳滤膜对活性黑KN-B、活性亮蓝FCF、M-8B红、活性艳蓝KN-R、活性红SIM-3BS、活性黄M-3RS几种染料进行脱盐试验,考查该体系的膜通量,染料溶液的浓缩情况。纳滤膜工艺不仅可应用于活性染料的脱盐处理,还可达到提高染料的纯度、强度和溶解度的目的,在活性染料脱盐浓缩中的具有极大的前景。 相似文献
23.
纳微胶囊在生物,医药,食品,化妆品等领域得到广泛的应用.相比于传统的制备方法,微流控技术能够产生单分散的单重和多重乳滴,并对这些乳滴的尺寸和结构进行精确的控制,是合成尺寸均一、结构可控以及释放可控的纳微胶囊的理想方法.本文首先介绍了微流控芯片的结构类型,如同轴聚焦、流动聚焦、T型、Y型以及它们的组合等;接着总结了微流控可控制备单一乳滴、双重乳滴以及多重乳滴模板以及乳滴的固化方法,最后着重介绍了微流控制备的纳微胶囊在可控释放方面的应用,其中分为持续释放(受粒径、表面形貌和形状等控制)和刺激响应释放(受外界环境刺激如pH、温度、光和离子等控制)两部分进行综述. 相似文献
24.
25.
4,4′-二氨基联苯俗称联苯胺,是合成染料的中间体,可用于制造多种染料和颜料。作为联苯的衍生物之一,4,4′-二氨基联苯有强烈的致癌作用,可通过吸入、食入或透过皮肤吸收导致中毒,引起接触性皮炎,还会刺激黏膜,损害肝和肾脏,以及导致膀胱癌和胰腺癌。我国对水中4,4′-二氨基联苯的含量有严格的限制。GB 3838—2002《地表水环境质量标准》规定,地表水中4,4′-二氨基联苯的限 相似文献
26.
《河南师范大学学报(自然科学版)》2016,(6):62-66
研究了一种由硅基光子晶体与金属复合微纳结构薄膜中的全向光吸收效应。与完整的硅/金属复合薄膜进行比较研究发现,在硅薄膜厚度相同的条件下硅基微纳结构薄膜能够使吸光度提高近70%。此外,结果显示这种光吸收增强效应对入射角度的变化不敏感。在以0°~60°角度入射的情况下,硅微纳结构薄膜都能够具备接近100%的光吸收。通过对能带以及场构型分析可以发现,这种现象产生的原因归结于金属平板与截断光子晶体中特殊的边界陷光效应和六角晶格的全向带隙。 相似文献
27.
割绒纳绣鞋垫是我国民间绣花鞋垫中的重要支系与品种.通过采取实地考察、民艺采风、工艺记录与复原等方法,对鲁南割绒纳绣鞋垫材料、工艺以及特殊制作技法进行了深入研究.其中,取材天然、对称切割等是鲁南割绒纳绣鞋垫的典型工艺特色.这些制作技艺体现了农耕社会民间手工艺的主要特征,对于它们的传承除了具有传统工艺保护的意义之外,还对现代设计具有启迪意义. 相似文献
28.
探讨了心理辅导对德育工作的效用,在德育过程中运用心理辅导的策略,即善于聆听,运用共情,引导学生学会自我思考、自我教育;充分悦纳,积极关注,激发学生自我发展、自我完善的欲望;疏导心理,发展良好的心理品质,促进学生形成健康、积极的人格。 相似文献
29.
纳孔分子材料是由孤立分子通过非共价相互作用堆积形成的具有纳微孔道结构的材料.和传统共价网络孔材料相比,纳孔分子材料具有独特的溶解性,并兼具气体存储与分离,限域反应和催化等方面的潜在应用,已成为当前研究的新热点.通过着眼于新型纳孔分子材料的设计,对相关理论研究进行了综合评述,主要包括以下3个方面:(1)无论是气体吸附还是催化反应,纳孔分子材料的晶体结构预测都是先决条件,只有在纳孔分子材料的晶体结构得到准确预测的前提下,才能够定向、准确、系统地对其进行设计;(2)气体在纳孔分子材料中吸附的分子动力学研究有助于深刻理解气体吸附的微观传输扩散机制;(3)气体在纳孔分子材料中吸附的巨正则蒙特卡洛模拟有利于对设计材料的吸附性能进行直接预测,得到可以直接与实验吸附量、吸附热等信息进行比较的结果.最后,简述了理论设计新型纳孔分子材料存在的问题以及未来发展前景. 相似文献
30.
"采用分子动力学模拟的方法,运用镶嵌原子模型,研究了经过刻划后的单晶铜纳构件在不同拉伸速度条件下的力学行为. 通过原子位图、缺陷原子透视图、径向分布函数及应力-应变关系研究加工后纳构件在拉伸负载作用下的变化特性,并与理想单晶铜纳构件进行对比分析.模拟结果表明,加工后的纳构件的屈服强度较理想纳构件的屈服强度有明显下降,屈服强度随着刻槽深度的增加而下降,而且屈服强度对刻槽方向和拉伸速度敏感;纳结构在拉伸负载作用下,其应力应变关系出现了双峰形式,即工作硬化现象,二次屈服后表现为Z字形逐波下降形式.刻划深度、刻划 相似文献